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第七单元 真空技术 7-0 真空技术基础知识 “真空”是指气体分子密度低于一个大气压的分子密度稀薄气体状态。真空的发现始于1643，那年托利拆利（E.Torricelli）做了有名的大气压力实验，将一端密封的长管注满水银倒放在盛有水银的槽里时，发现了水银柱顶端产生了真空，确认了真空的存在。此后，人们不断致力于提高真空度，随着科学技术的发展，现在已经能够获得低于10-10Pa的极高真空。 在真空状态下，由于气体稀薄，分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减小，分子在一定时间内碰撞于表面上的次数亦相对减小，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流减小，氧化作用小，气体污染小，气化点降低，高真空的绝缘性能好等等，这些特征使得真空特别是高真空技术已发展成为先进技术之一，目前，在高能粒子加速器、大规模集成电路、表面科学、薄膜技术、材料工艺和空间技术等科学研究的领域中占有重要地位，被广泛应用于工业生产，尤其是在电子工业的生产中起着关键的作用。 真空物理基础 真空的表征 表征真空状态下气体稀薄程度的物理量称为真空度。单位体积内的分子数越少，气体压强越低，真空度越高，习惯上采用气体压强高低来表征真空度。 在SI单位制中，压强单位为 牛顿/米2（N/m2）： 1牛顿/米2 =1帕斯卡（Pascal），（-0-1）帕斯卡简称为帕（Pa），由于历史原因，物理实验中常用单位还有托（Torr）。 1标准大气压（atm）=1.0135×105(Pa)， 1托=1/760标准大气压 （7-0-2） 1托=133.3帕斯卡 习惯采用的毫米汞柱（mmHg）压强单位与托近似相等（1mmHg=1托。各种单位之间的换算关系见附表7-1 真空的划分 真空度的划分（不同程度的低气压空间的划分）与真空技术的发展历史密不可分。通常可分为： 低真空（）、高真空（）、超高真空（）和极高真空（低于）。 20世纪70年代进一步提高到的宽达20个数量级的真空度范围，并随着某些新技术、新材料、新工艺的应用和开拓，将进一步接近理想的真空状态。 描述真空物理性质的主要物理参数 （1）分子密度：用于表示单位体积内的平均分子数。气体压强与密度的关系为 （-0-3）　　　　　　　　　　 （7-0-4） 其中为分子直径。由（7-0-4）式可知，气体分子的平均自由程与气体的密度n成反比因而它将随着气体压力的下降而增加。在气体压强低于0.01Pa的情况下，气体分子间的碰撞几率已很小，气体分子的碰撞主要是其与容器器壁之间的碰撞。 （3）单分子层形成时间：指在新鲜表面上覆盖一个分子厚度的气体层所需要的时间。一般，真空度越高，干净表面吸附一层分子的时间越长，从而可较长时间地维持一个干净的表面。单位表面积上气体分子的吸附频率与压强的关系为 　 　　（7-0-5） 式中M和T 分别为气体分子的分子量（单位：g）和温度（单位：K），在高真空，例如时，对于室温下的氮气，，如果每次碰撞均被表面吸附，按每平方厘米单分子层可吸附个分子计算，一个干净的表面只要1秒多钟就被覆盖满了一个单分子层的气体分子；若在超高真空或，由同样的估算可知干净表面吸附单分子层的时间将达几小时到几十小时之久。所以超高真空技术经常应用于集成电路的生产工艺和科学研究等方面。 真空的获得 用来获得、改善和维持真空环境的装置简称为真空泵。按照真空泵的工作原理可分为二类：一类是“排气”型或称“压缩”型真空泵。这类真空泵是利用其内部的各种压缩机构将被抽容器中的气体压缩到排气口方向，排入大气中。例如，旋片式机械泵、增压泵、油扩散泵以及涡轮分子泵等。另一类称为“吸附”型真空泵。这类真空泵是在封闭的真空系统中利用各种物理或化学表面（吸气剂）吸气的方法将被抽空间的气体分子吸附在固体表面上。例如吸附泵、溅射离子泵、钛升华泵及低温泵。真空泵若按应用范围分，则有低真空泵（包括中真空），例如旋片式机械泵、增压泵及吸附泵等；高真空泵（包括超高、极高真空），例如油扩散泵、涡轮分子泵、离子泵及低温泵等。 真空泵常用的两个重要参量是：（１）极限真空，在被抽容器的漏气及容器内壁放气可忽略的情况下，真空泵能抽得的最高真空称为极限真空。（２）抽气速率，在给定压强下，单位时间内从泵的进气口抽入泵内的气体体积，称为泵在该压强下的抽气速率，单位为升／秒。 （P为压强，V为容器体积，T为绝对温度，R为常数），在等温过程中，一个容器内的体积和压强的乘积等于常数。这样，只要使容器的体积在等温条件下不断扩大，就可不断降低容器的压强。 图7-0-1是常用的旋片式机械真空泵的结构图，其工作过程如图7-0-1