椭偏仪应用.ppt

椭偏仪的应用 光电信息工程二班 椭偏仪 椭偏仪是一种利用偏振光通过测量被测样品反射(或透射)光线偏振状态的变化获得薄膜厚度或界面参量的仪器。 特点：非接触性、测量精度高和非破坏性, 能同时测定薄膜厚度和光学常数, 可测量多层薄膜, 并且适合测量的膜厚范围广。 椭偏仪的原理 自然光经过起偏器和λ/4波片变为椭圆偏振光，经样片反射后一般仍为椭圆偏振光，入射到样片上的椭圆偏振光经样品反射，使出射光的偏振态发生变化。如果在入射光两分量中引进相位差，使得从样品反射的反射光被补偿成线偏振光，再通过调节检偏器的透光轴方向可以达到消光，这就是最早制作的消光性椭圆偏振仪的原理。由所知道的起偏器和检偏器的角度 和 ，求出椭圆参量ψ和δ，即可由关系式求出薄膜的光学常数。 用薄膜的椭圆函数ρ表示薄膜反射线形成椭圆偏振光的特性,即 椭偏仪 椭偏仪分类 光度椭偏仪 光度式椭偏仪与消光式椭偏仪原理相近，只是前者对探测器接收到的光强进行傅里叶分析, 再从傅里叶系数推导得出椭偏参量。 光谱椭偏仪 由于材料的光学常数是入射光波长的函数, 为了精确测定光学常数随入射波长的变化关系, 得到多组椭偏参量, 椭偏仪从单波长测量向多波长的光谱测量发展，故又出现了光谱椭偏仪，而光谱椭偏仪主要是利用光栅单色仪产生可变波长，利用法拉盒自补偿技术制成光谱椭偏仪。 成像椭偏仪 传统椭偏仪和成像系统相结合，普通椭偏仪测量的薄膜厚度是探测光在样品表面上整个光斑内的平均厚度, 而成像椭偏仪则是利用 CCD 采集的椭偏图像得到样品表面的三维形貌及薄膜的厚度分布,更适用于观测微型集成电路的结构。 椭偏仪应用 成像椭偏仪对集成电路样片的测量 （RCWA是指严格耦合波分析，是一种基于 Maxwell方程微分形式的矢量衍射建模理论.） 椭偏仪应用 .2003 年，Enric Garcia 将傅里叶红外光谱椭偏仪应用于微生物的识别和监测中，其波长范围为 2-12um，这是红外光谱椭偏仪第一次用于分析细菌组织。 2009 年，NATALIYA A.NIKONENKO 等人将椭偏光谱仪用于两性分子聚合物表面上粘蛋白层的监测中，粘蛋白层最厚达 17nm，红外光谱椭偏仪可识别粘蛋白和聚合物之间的相互作用和结构变化。 2004 年，K. Rabinovitch 研制出了一种快速扫描的椭偏仪，随着半导体工业晶片尺寸的增加，实时监测薄膜生长的厚度成为工业生产中必要条件，快速扫描椭偏仪就实现了对薄膜生长情况的快速测量。 椭偏仪应用 固体薄膜光学性质的测量　应用椭偏术可对单层吸收膜、双层膜及多层膜进行测量,得到材料的光学常数折射率N和吸收系数K,进而得到其介电常数.近年来也实现了对离子注入损伤分布的测量、超晶格、粗糙表面、界面的测量. 物理吸附和化学吸附　用椭偏术方法在现场且无损地研究过与气态、液态周围媒质相接触地表面上吸附分子或原子形态的问题. 界面与表面的应用　椭偏广泛用于研究处于各种不同环境中的材料的表面的氧化和粗糙程度,以及材料接触界面的分析.例如金属和半导体接触,以及肖特基的研究. 电化学　离子吸附、阳极氧化、钝化、腐蚀及电抛光等电化学过程,可以现场深入地研究电极-电解液界面过程. 微电子领域　在微电子领域中,研究薄膜生长过程,薄膜厚度,半导体的表面状况以及不同材料的界面情况,离子的注入损伤分布等;一些高技术材料的研究及其它新领域:高温超导材料、低维材料、导电聚合物以及光电子学、声光学和集成光学、激光技术等领域,椭偏术还用来研究固体的辐射损伤. 谢谢 孟昊 范子擎 于泽欣 图2 椭偏仪光学系统原理图 自然光 起偏器 φ1 检偏器 光电倍增管 1/4波片 线偏 振光 氦氖激光器 ? 消光