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超高分辨多靶材离子溅射仪208HR和高真空镀膜机价格标题:三靶射频磁控溅射镀膜仪和透射专用超高真空镀碳仪参数库号：JX164033 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真空室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．工作真空： 2×10-1—10-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，10．真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。主要特点：轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作标题:台式溅射仪和高真空镀膜机价格库号：JX164034 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。 满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。特点：在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基