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溶液法生长单晶 定义:溶液法生长晶体是指首先将晶体的组成元素(溶质)溶解在另一溶液(溶剂)中,然后通过改变温度、蒸汽压等状态参数,获得过饱和溶液,最后使溶质从溶液中析出,形成晶体的方法。 1、降温法 2、蒸发法 3、凝胶法 1、缓慢降温法 2、蒸发法 3、温度梯度传输法 三、热液法 * 溶液法生长单晶主要包括低温溶液、热液、和高温热液等生长方法。 低温溶液培育单晶优点:i) 温度低,易于选择仪器装置;ii) 易生长均匀性良好的大块单晶iii) 晶体外形完整可用肉眼观察生长过程。缺点:i) 组分多,杂质不可避免;ii) 生长速度慢,周期长;iii) 晶体易于潮解,应用的温度范围窄。 一、 低温溶液法 低温溶液单晶法又可分为降温法、蒸发法、凝胶法。 原理:程控降温,使溶液始终处于亚稳相和适宜的过饱和度状态,促使晶体正常始终 操作技术要点: 1、配制溶液,测定 溶液饱和点和稳定性; 2、溶液过热处理 2~3 小时;预热晶种装槽时, 使晶种微溶; 3、长成后,放出溶液, 降至室温,取出晶体, 进行干燥 原理:将溶剂不断的蒸出,从而保证溶液始终处于过饱和状态。 技术要求与降温法基本相同,不同之处是根据冷凝水的蒸发量来确定晶体生长情况,即随着晶体的长大逐渐增加蒸发量 原理:以凝胶为介质,晶体在其中借助化学反应生长 特点:无对流、湍流,在静止状态下扩散生长,利于生长完好的晶体;温度易于控制,副反应少 二、高温溶液法 定义:高温溶液法又称助熔法,他是将原料在高温下溶解于助溶剂中,形成过饱和的溶液,生长动力为过饱和度。 特点:适用性强,适用于几乎所有晶体材料;对于难溶化合物等不能直接在其熔体中生长,可选择适当的助溶剂来进行生长;设备简单,易于计算机自动化 缺点:速率慢,周期长;许多助溶剂有毒性;杂质不可避免 高温溶液法又包括缓慢降温法、蒸发法、温度梯度传输法 计算机程控降温。 注意起始时,籽晶较小,需精确控制降温速度,以免籽晶产生缺陷和杂晶 严格控制溶剂的蒸发率,保证溶液的过饱和,是晶体生长过程的关键所在 技术操作要点:引入助溶剂;使优质晶粒在饱和溶液中做正反两相转动;使计算机智能控制温度 热液法生长单晶,又分为水热法和溶剂热法,区别为溶剂不同。 热液法生长操作要点:装料----将原料装入高压釜底部溶解区,籽晶高悬在顶部生长区,釜内转满溶剂介质矿化剂和水;晶体生长----温差产生强烈对流,使熔融原料进入生长区,形成过饱和溶液,析晶 *
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