- 78
- 0
- 约3.72万字
- 约 42页
- 2016-08-26 发布于湖北
- 举报
学科代码 编 号
文 献 综 述
学 号: 0040509010 研 究 生: 王新建 导 师: 吴建生教授 姜传海教授 研究方向: 材料科学 论文题目: 学 科: 材料学 学 院: 材料科学与工程系 入学时间: 2004年9月 开题时间: 2005年10月20日
年 月 日 0 引言 1
1.大规模集成电路的发展以及铜互连工艺的概述 2
1.1.大规模集成电路的发展概况 2
1.2.ULSI中铝互连线的发展 4
1.3.ULSI中铜互连线工艺的提出、发展及存在的问题 5
1.3.1.铜互连工艺的提出 5
1.3.2.铜互连技术的主要问题 8
2.铜互连的扩散阻挡层的发展现状的概述 10
3.扩散基本理论以及铜互连薄膜中的二维扩散研究的现状 12
3.1.Fick扩散定律及扩散系数 13
3.1.1.Fick第二扩散定律 13
3.1.2.扩散系数的确定及Arrhenius公式 14
3.2.薄膜扩散理论 14
3.2.2.单晶薄膜的扩散动力学理论的研究 15
3.2.3.多晶薄膜扩散动力学理论的研究 16
3.3.溶质对晶粒间界扩散的影响 21
3.3.1溶质在高温时增加晶粒间界扩散 21
3.3.2溶质在低温时减小晶粒间界的扩散 22
3.4.铜薄膜中铜原子层间的扩散失效 22
4.铜互连
原创力文档

文档评论(0)