纳米银导电膜及其TP制作工艺探究.pptVIP

* 纳米银导电膜及其TP制作工艺介绍 Touch Word * * 报告目录 纳米银导电膜 1 纳米银TP制作工艺 2 * 一、纳米银导电膜 纳米银线 纳米银线是采用化学法生长的直径为25~300nm， 长度10~200um的纳米材料。 纳米银线除具有银 优良的导电性之外，由于纳米级别的尺寸效应， 还具有优异的透光性、耐曲挠性。因此被视为是 最有可能替代传统ITO透明电极的材料，为实现 柔性、可弯折LED显示、触摸屏等提供了可能，并已有大量的研究将其应用于薄膜太阳能电池。此外由于银纳米线的大长径比效应，使其在导电胶、导热胶等方面的应用中也具有突出的优势。 * 一、纳米银导电膜 纳米银导电膜是指采用精密涂布的方法，在透明有机薄膜材料上涂布透明纳米银丝墨水并经固化处理而得到的高技术产品。纳米银丝墨水涂布密度不同，膜的导电性能和透光性能也不同。纳米银导电膜由于具备良好的导电性能和透光性能，特别适用于触摸屏的制作。 与ITO导电膜相比，纳米银导电膜有以下优越性： 1、生产效率高，价格相对较低； 2、面阻值低，可做到50欧姆以下，特别在大尺寸 触摸屏制作上有很大优势，为实现超大尺寸触 摸屏和大尺寸单边走线提供了可能性。 3、耐曲挠性好，为实现柔性、可弯折触摸屏提供 了可能。 * 纳米银TP可通过激光镭射和黄光两种工艺制作，制作流程如下： 二、纳米银TP制作工艺 1、激光镭射工艺流程 开料 银胶印刷 银胶烘烤 AgNW Laser 老化 大片组合 2、黄光工艺流程 开料 压干膜 曝光 显影 老化 Ag Laser Senor Test 大片组合 senor外形冲切 银胶烘烤 银胶印刷 蚀刻 剥膜 FPC绑定 Bonding Test CG贴合 终检 Final Test senor外形冲切 Senor Test FPC绑定 Bonding Test CG贴合 终检 Final Test * 三、制程难点 1、镭射工艺制程难点 ①纳米银导电膜与银胶之间的搭配性，需保证搭接处的导电性和附着性。 ②银胶印刷质量管控，需保证印刷厚度均匀性，无杂物、透空点等。 ③AgNW同步镭射工艺调试，特别是大尺寸触摸屏涉及到多次拼接，需同时保证 外观 和功能OK。 2、黄光工艺制程难点 ①纳米银、干膜与蚀刻液三者之间的搭配性，需保证干膜与纳米银的附着性、解析度以 及蚀刻液对纳米银、干膜的蚀刻性。 ②纳米银导电膜与银胶之间的搭配性，需保证搭接处的导电性和附着性。 * 四、具体专案分析 1、专案信息 联想15.6 ″，投入NW+NW和ITO+NW两种结构样品， NW方阻为100 ± 30 Ω ，Tx、Rx 均为双边走线。 2、良率及问题点 问题点： ①银胶附着力差，做百格测试NG。 ② AgNW Laser良率低。 3、纳米银激光镭射工艺与ITO印刷工艺效率对比 4、可行性分析 纳米银激光镭射工艺与ITO印刷工艺相比，有材料成本低、生产效率高、人力及机台需求 少的优势，在提升良率和客户认可的前提下有非常好的可行性。 纳米银激光镭射工艺评估 专案 结构 投入 产出 良率 MCF-156-0751-20 NW+NW 30pcs 7pcs 43.30% ITO+NW 30pcs 16pcs 23.30% 工艺方式 老化 耐酸印刷固化 蚀刻 银胶印刷固化 线路镭射 大片线路产出效率 上线 下线 上线 下线 纳米银镭射 40s/pcs 0 0 35s/pcs 145s/pcs 100s/pcs 220s/min 175s/min ITO印刷 80s/pcs 30s/pcs 10s/pcs 35s/pcs 108s/pcs 63s/pcs 263s/min 218s/min * 1、寻找与纳米银匹配性好的银胶。 2、管控好银胶印刷质量，包括厚度均匀性、杂物、透空等。 3、进一步调试镭射参数，提升良率。 4、选择更低阻值的纳米银导电膜，上下线均以单边走线，从而做到窄边框效果。 五、建议对策 * * 女士们、先生们，[早上/下午]好！我是蔡荣军，非常感谢大家今天能够前来参加深圳欧菲光科技股份有限公司的上市推介会 希望能够通过这次推介会，向大家展示一个极富创新力、具有利润增长前景的精密光电薄膜行业龙头——深