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菱形放大结构静态性能分析 Research of static performance with a Diamond Amplifying Structure 学科专业机械工程 作者姓名 程习康 作者学号 153711006 指导教师 湛利华教授 二〇一五年十二月 菱形放大结构静态性能分析 摘要：微电子封装过程中的元器件是通过胶液与基板连接成一体，胶点的大小、一致性等对电子产品的性能有很大影响，目前喷射式点胶技术能够喷射纳升级的微小胶点而且工作效率高，因此应用前景十分广阔。本文对一种喷射点胶技术中的菱形放大结构进行仿真分析。 其中包含对菱形放大结构进行理论分析，分析其位移放大倍数；利用ANSYS对放大结构的静态性能进行分析。 关键词：喷射点胶；压电陶瓷；菱形放大结构；静态特性 Research of static performance with a Diamond Amplifying Structure Abstract：Keywords： 1菱形位移放大结构理论分析 1.1位移放大结构工作原理 压电陶瓷通电伸长产生横向的位移，菱形壳发生弹性形变，将横向位移转成竖直方向的放大位移；断电后压电陶瓷迅速恢复原长，菱形外壳在弹性力作用下恢复原形，产生向上的位移，如图1-1所示。周期性的充放电则可以实现整个结构的上下往复运动。 激励电压U升高激励电压U降低 图1-1菱形放大结构的工作原理图 1.2菱形放大结构线性模型 （1）菱形放大结构的几何放大关系 菱形放大结构可以认为是一个单自由度弹性系统，为了简化分析，我们做出以下假设：（1）将其简化成8根杆和8个柔性转角；（2）所有杆都是刚性的杆件，工作时不会发生弹性形变；（3）由于这是对称结构，上、下杆长度和转角都是一样的。如图1-2所示，菱形放大结构变形前、后分别为实线和虚线所示。 压电陶瓷的横向输出位移和菱形位移放大结构竖直方向的输出位移的关系式如下： （1-1） 实际情况中，时，因此式（1-1）可以简化成： 所以菱形位移放大结构的放大倍数： （1-3） 由此可知，放大结构的放大倍数主要取决于角，越小，则放大倍数越大，为了取得较大的放大倍数可以采用较小的角。 图1-2菱形结构变形图 （2）菱形放大结构位移输入输出线性模型 菱形位移放大结构关于中心对称，所以可取其四分之一的结构来分析。图1-3是菱形位移放大结构的受力示意图，图1-4是放大结构四分之一的几何变形图。将放大结构等效成刚杆AB和2个扭转弹簧。压电陶瓷处于自由状态下，施加大小为V的电压，其输出的位移为，其中是压电应变常数。 压电陶瓷装配至菱形位移放大结构，给压电陶瓷施加激励电压，压电叠堆输出位移和力，放大结构给压电陶瓷反作用力，放大结构在竖直方向产生位移和输出力，如图1-3所示。以四分之一放大结构分析时，受力如图1-4所示，作用于A点简化成力偶和力。力偶： （1-4） 图1-3菱形放大结构受力图 图1-4杆受力图 根据能量守恒定理，外力所做的功和A、B之间势能的增加量相等，所以： （1-5） 分别为A、B两点扭转弹簧刚度系数；； 变形前、后位移几何条件： （1-6） 式中N为放大倍数。 根据压电陶瓷的本构方程可以得到压电堆受的电压、输出位移和输出力之间的关系式： （1-7） 为压电堆等效刚度。 将式（1-5）、（1-6）和（1-7）联立，求出菱形位移放大结构的输出位移： （1-8） 当菱形放大结构不输出力时，式1-9可以简化为 （1-9） 式中。结果表明，输出位移与输入电压成线