双室超高真空多功能溅射系统.docVIP

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  • 2017-05-14 发布于天津
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双室超高真空多功能溅射系统.doc

双室超高真空多功能溅射系统 型号:JGP-450 购入时间:2007 价格:480000元 制造厂家:沈阳科学仪器研制中心 安置地点:新校区G楼312 所在单位:理学院物理系 所在地址:上海上大路99号 联系人:马忠权 联系电话:座机电话号码 仪器简介: 采用直流或射频溅射的方法用于单层或多层薄膜制备,反溅清洗及退火处理。系统极限真空: 进样室:6.6E-4Pa,主溅射室:9E-6Pa; 样品加热温度:室温-500摄氏度, 退火温度:室温-800摄氏度。 DC直流电源:N 500W; RF射频电源:N 500W,f 13.56MHz 偏压电源:-200V; 样品尺寸:最大直径为30mm。

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