电子枪蒸镀系统.docVIP

電子槍蒸鍍 原理： 利用電子槍所射出之電子束轟擊待鍍材料，將高能電子射束之動能轉為熔化待鍍材料之熱能，其擁有較佳之熱轉換效率，同時也可得到較高的鍍膜速率，而且利用電流大小控制熱電子數目也可精密調控其蒸發速率。 至於在蒸鍍材料的選擇方面則幾乎不受限制，無論純元素、化合物都可以蒸鍍，即使是鎢、鉬及鉭等高熔點元素或鋁、鈦等活性強之金屬也都適用。 系統構造： 電子束的來源主要由電子槍系統提供，電子槍的操作原理類似於陰極射線管， 它的電源輸出功率可從1 kw到1000 kw，使得電子束的動能達到30 kev 以上。 當陰極燈絲被施以低壓電流而達到白熱化時，電子將從燈絲表面釋出而向四方發 射，且隨燈射溫度提高而增加其釋放量，此為熱電子。 一般低功率電子槍之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場，而高功率電子槍則 需使用電磁鐵。 電子束加速後可直接撞擊在薄膜材料上使之蒸發，但蒸發之原子或分子會污染電子源，因此通常將電子源藏在裝薄膜材料之鎗座底下，而利用強力磁場將電子束偏向180°或270°。 因電子槍蒸鍍法，對某些精密光學元件的薄膜品質要求而言仍有不足，其膜層微觀結構呈現柱狀形態，孔隙多，裝填密度低，造成較大的光學吸收，且耐潮性、硬度及附著度都較差。 基於此項考量，近年的發展趨勢是使用離子槍輔助蒸鍍方式解決，下圖為離子槍輔助蒸鍍法，在電子槍蒸鍍設備中加設一離子槍，以氬離子束直接轟擊基板表面。在鍍