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- 2017-03-10 发布于海南
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化工制图正投影法的介绍
制图总结 北京大学化学与分子工程学院应用化学系 何 平 制图总结 投影分类 正投影法 机件的表达方法 机件的表达要求 机件的表达原则 画法规范 尺寸标注 其他标注 考试内容 考试形式 考试安排 投影分类 中心投影法 平行投影法 斜投影法——斜轴测图——斜二测图 正投影法 正投影图(平面图) 正轴测图(立体图) 正等测图 正二测图 正投影法 投影特点 实形性、积聚性、类似性 投影规律 长对正、高平齐、宽相等 三面投影图 主视图、左视图、俯视图 点的投影 验证了投影规律 点的坐标与投影的关系 点的相对位置 重影点 正投影法 线的投影 分类:一般位置、平行线、垂直线 线的投影特点:线性、从属性、平行性 线的相对位置:平行、相交、交叉、垂直 面的投影 分类:一般位置、平行面、垂直面 平面取点——换为平面内取线 平面取线 一点一直线 两点在平面内 机件的表达方法 视图 基本视图 基本立体——平面立体、回转体——表面取点 截切立体 棱柱、棱锥、棱台 圆柱、圆锥、圆台、球 相贯立体 方法:积聚性法、辅助平面法 步骤——特殊点——一般点 组合体 组合方式:堆积、相交、相切 分析方法:形体分析法、线面分析法 向视图 局部视图 斜视图 机件的表达方法 剖视图 分类:全剖、半剖、局部剖 剖切种类:单一剖、平行剖、相交剖 断面图 移出断面图 重合断面图 其他 简化画法 局部放大画法 其他画法 机件
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