激光干涉光刻技研究.doc

编号 激光干涉光刻技术研究 Laser interference photolithography technology research 学 生 姓 名 王新舜 专 业 电子科学与技术 学 号 1112129 指 导 教 师 分 院 光电科学分院 2015年 X月  摘 要 本文研究的是基于激光干涉光刻的相关理论，综合论述激光干涉光刻的基本原理、主要类型、发展趋势及当前未解决的难题。干涉光刻技术是一个无需用到复杂的光学系统或光掩膜而制备精细结构的技术手段，干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体。激光干涉光刻作为一种新兴的光刻技术，具有设备简单、价格低廉、高效率高分辨率和大视场曝光等待点，对其进行系统的研究，对推进光学光刻极限，发展纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要意义和广阔的应用前景。 关键词：ABSTRACT This paper researches on related theories of laser interference lithography based on basic principle of lithography, laser interference, comprehensive exposition of the main types, development trend and the current outstanding problem. Interferometric lithography is a no need to use the complex optical system or optical mask and preparation technology of fine structure, interference lithography, interference and diffraction in laser optics and optical lithography in one. As a new kind of laser interference lithography, has the advantages of simple equipment, low price, high efficiency and high resolution and large field exposure waiting point, to study it, to promote the development of nano optical lithography limit, microelectronic and optoelectronic devices, a new large screen flat panel display and a new lithography has important significance and broad application prospect. Keywords: Optical lithography holographic lithography interference lithography 目 录 绪 论 1 第一章 方案设计 2 1.1 功能要求 2 1.2 方案选择 2 1.3 方案论证 3 第二章 系统总体的设计 5 2.1 系统总体的设计 5 第三章 系统硬件的设计 6 3.1 AT89S52的结构和功能 6 3.1.1 AT89S52引脚结构 6 3.1.2 寄存器 8 3.1.3 复位 10 3.2 AT89C2051的结构和功能 10 3.2.1 AT89C2051结构 10 3.2.2 主要性能 12 3.3 TL1838一体化红外接收头 12 3.4 LD发射器 13 3.4.1 LD半导体激光器简介 14 3.4.2 警示标志 15 第四章 系统模块 17 4.1 LD发射模块的设计 17 4.2 本机处理接收电路的设计 17 4.2.1 LD接收电路的设计 18 4.2.2 报警电路的设计 18 4.2.3 电源电路的设计 19 4.2.4 其他外围电路的设计 19 第五章 系统软件设计及实现 20 5.1 LD红外发射模块程序的设计 20 5.2 本机接收处理模块程序的设计 20 5.2.1 密码设置子程序的设计 21 5.2.2 按键间隔超时的判断及复位 21 第六章 结　语 23 致 谢 24 附 录 25 参 考 文 献 26 绪 论