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镁合金的微弧氧化处理及其在压铸件上的应用 蔡启舟 王立世 魏伯康 （华中科技大学 材料科学与工程学院） 摘要：微弧氧化是一种在Al、Mg、Ti等有色金属表面原位生成陶瓷的表面改性新技术，可制备诸如防腐、耐磨、耐热及其他功能化膜层，具有广泛的应用前景。本文以课题组的研究成果为基础，介绍镁合金微弧氧化膜层的结构与性能，展示了微弧氧化在压铸镁合金上的应用实例，并分析微弧氧化技术的发展方向。 关键词： AZ91D镁合金，微弧氧化，膜层，结构，性能 1. 前言 镁合金由于具有质量轻、比强度和比刚度高以及良好的铸造性能等特点，在航空航天和电子通讯等行业中正得到日益广泛的。腐蚀已成为限制镁合金应用的关键问题之一。 主要包括化学转化膜和阳极氧化膜。化学转化膜是通过化学氧化的方法在镁合金表面沉积一层胶状络合物，这种络合物在未失去结晶水时具有自修复功能但在高于50的环境中使用，转化膜会因失去结晶水而破裂，耐蚀性显著降低。化学转化膜很薄(厚度0.2~2μm)，保护价值较小，主要用于工件短期存放和运输时的保护层，以及作为油漆底层来提高油漆的附着力镁合金的阳极氧化膜化学转化膜质脆而多孔、易破裂，一般只作为防护处理的中间工序，很少单独使用。微弧氧化是将Al、Ti等有色金属合金置于电解液中，利用电化学方法使其表面产生火花放电，在热化学、电化学和等离子化学的共同作用下原位生成陶瓷层的一种先进表面处理技术。微弧氧化所形成的陶瓷层与基体金属结合牢固，具有膜层厚、绝缘性好、硬度高的特点，可大大改善有色金属的耐蚀性、耐磨性和耐热冲击性20世纪80年代，微弧氧化成为国际研究的热点之一90年代以来，美、德、俄等国家加快了该技术的研究工作，，但研究集中在铝合金。国内微弧氧化技术的研究起步，特别是镁合金微弧氧化技术的研究才刚刚开始。 μArc-I型镁合金微弧氧化专用电源，其主要参数如下：(1) 电流电压范围：30A/±400V；稳压稳流精度≤1%；(2) 矩形波的最小脉宽≤100μs；占空比：1:1～1:100；(3) 电源频率可调范围：0.01~1000Hz；(4) 可输出波形的种类：正负向电流、单向方波脉冲、单向方波双脉冲、双向方波脉冲。电解槽是用冰水循环冷却。 图1 微弧氧化装置示意图 2.1.2 试验材料及电解液配方 试验处理的材料为金属型铸造AZ91D合金，化学成分为(wt%)：9.1Al、0.27Mn、085Zn、余Mg。通过正交试验开发了硅酸盐系和磷酸盐系两种电解液，其组成如表1所示。 表1 AZ91D合金微弧氧化氧化电解液配方 磷酸盐电解质 (g/L) 硅酸盐电解质(g/L) 六偏磷酸钠 ((NaPO3)6) 5~15 硅酸钠 (Na2SiO3·9H2O) 6~15 六氟铝酸钠 (Na3AlF6) 5~10 硼酸钠 (Na2B4O7·10H2O) 2~5 氢氧化钾 (KOH) 5~8 氢氧化钾 (KOH) 3~5 三乙醇胺 4 ~6mL/L 氟化钾 (KF·2H2O) 3~6 蒸馏水 余 蒸馏水 余 2.1.3 膜层的检测与分析 利用XRD(衍射仪为D/Max-ⅢB)分析微弧氧化膜层的相结构，为保证XRD谱数据的有效性，膜层与AZ91D基体一起进行测试。膜层表面和断面形貌观察采用OLMPOS光学显微镜以及JXA-8800R电镜、场发射电镜。利用EDX分析膜层的表面和截面相关元素的分布。 膜层耐蚀性的测量采用全浸法和盐雾试验法。全浸法试的试样尺寸：50mm×25mm×5mm薄片；腐蚀介质为5wt.%NaCl水溶液；试验温度为室温。盐雾试验箱温度的温度设定为35±2℃，盐雾沉降速度约为3~4mL/80cm2·h。腐蚀介质为5wt.%的NaCl水溶液。两种试验时间均设定为120h，以失重法衡量膜层的腐蚀速率。 试样的拉伸试验在Zwick/Roell Z010万能材料试验机上进行，自动记录载荷-变形量曲线，分析不同处理时间所获得的膜层对AZ91D镁合金拉伸性能的影响。同时，在410℃的箱式电炉中测试了膜层的抗氧化性。 2.2 试验结果及分析 2.2.1两种电解液中的膜层形貌及组成 (a) P-film的表面形貌 (b) Si-film的表面形貌 (c) P-film的截面形貌 (d) Si-film的截面形貌 图2 AZ91D合金膜层的形貌AZ91D合金膜层形貌如图所示。在磷酸盐系膜层表面存在。硅酸盐系膜层则明显的孔洞。这可能源于磷酸盐系和硅酸盐系膜层的不同终止电压。终