多功能蒸鍍鍍膜系統暨多靶磁控濺鍍儀一套規格書.docVIP

多功能蒸鍍鍍膜系統暨多靶磁控濺鍍儀一套規格書 （一）規格內容 A、Process Chamber 1： SUS 304 stainless steel made 前開式腔門 4 inch視窗玻璃 腔體尺寸可容納9組蒸鍍源 腔體內部需要有防鍍遮板 B、Process Chamber 1： SUS 304 stainless steel made 前開式腔門 4 inch視窗玻璃 腔體尺寸可容納4組蒸鍍源及2組 腔體內部需要有防鍍遮板 C、Pumping System： 進口機械真空幫浦2台, pumping speed 600 L/min 高真空幫浦為CRYO Pump, pumping speed 4000 L/sec, 兩個製程腔體共用兩個製程腔體 製程腔體1和製程腔體2皆有獨立的氣動抽氣閥門和洩氣閥門 *High vacuum Valve × 2 *Rough Valve × 2 *Vent Valve × 2 D. Substrate Holder： 可放置10 × 10 cm玻璃一片 或可以放置4片 1.5×1.5cm的基板 Substrate holder上有四個獨立小遮板,可以單獨個遮板控制打開或關閉,遮板可以跟substrate holder 一起旋轉鍍膜 Substrate Holder下方有一個可以遮蔽10 × 10 cm之大遮板 基板具有加熱功能, Cha