SEM原理与测试解析.pptVIP

特点 仪器分辨本领较高。二次电子像分辨本领可达1.0nm(场发射),3.0nm(钨灯丝)； 仪器放大倍数变化范围大（从几倍到几十万倍），且连续可调； 图像景深大，富有立体感。可直接观察起伏较大的粗糙表面（如金属和陶瓷的断口等）； 试样制备简单。块状或粉末的试样不加处理或稍加处理，就可直接放到SEM中进行观察,比透射电子显微镜（TEM）的制样简单。 SEM 扫描电镜一般有三个聚光镜： 前两个透镜是强透镜，用来缩小电子束光斑尺寸。 第三个聚光镜是弱透镜，具有较长的焦距，在该透镜下方放置样品可避免磁场对电子轨迹的干扰。 例如在放大倍数是500倍时，焦深可达1000μm。 因而对于复杂而粗糙的样品表面，仍然可得清晰聚焦的图像。并且图像立体感强，易于分析 . 表面形貌衬度 由于二次电子信号主要来自样品表层5-l0 nm深度范围，它的强度与原子序数没有明确的关系，适用于显示形貌衬度。 入射电子束与试样表面法线间夹角愈大，二次电子产额愈大 ． 表面形貌衬度的应用 基于二次电子像（表面形貌衬度）的分辨率比较高且不易形成阴影等诸多优点，使其成为扫描电镜应用最广的一种方式，尤其在失效工件的断口检测、磨损表面观察以及各种材料形貌特征观察上，已成为目前最方便、最有效的手段。 1．材料表面形态（组织）观察 2．断口形貌观察 2．断口形貌观察 3．磨损表面形貌观察 4．纳米结构材料形态观察 5．