半导体扩散设备解析.pptVIP

一个月制造学习 DPC * ??1? ??? */1 “??(Action) ??(Renovation)” KEC-C ? 5? ??? ?? 2011. 08. 11 BIP DIFF 1:1 ?? ???? ?? ?? ???? ???? ? ? ? ? 2011.08.11 ~ ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 1.在开启MAINSWITCH时，先要复位（想左旋转） 2.电源的开启一定要严格遵守一定的顺序，不可颠倒. Furnace的开、关以及紧急情况对策 *设备的POWER ON方法 *设备的POWER OFF方法 *设备的紧急关闭与开启方法 8/15 1.Implant的四个真空DRY PUMP工作原理 *I/S: Ion Source Pump *B/L: Beam Line Pump *CYRO Pump *E/S: End Station Pump 2.Source Control界面.Implant SET UP界面了解 3.Beam 波形调整方法 8/12 1.FURNACE工作原理 2.TEMPRESS结构组成 由Load station. Furnace. Gas Cabinet. Main Power. DPC.D