5第四章真空蒸发镀膜法解决方案.pptVIP

* 与MBE相比，热壁法简便、价格便宜。但可控性和重复性稍差。 * 衬底的平均表面：薄膜接触衬底一侧的表面分子的集合的平均表面。 薄膜形状表面：薄膜上，不与衬底接触的那一侧的表面的平均表面。 质量等价表面：将所测的薄膜原子重新排列，使其密度和块状材料的相同且均匀分布在基片表面上，这时的平均表面称为质量等价表面 。 物性等价表面：根据所测量薄膜的物理性质，等效长度和宽度与所测的薄膜尺寸相同的块状材料的薄膜，这时的平均表面称为物性等价表面。 * 另一种方法是在绝缘基板上制作下电极，然后淀积一层介质薄膜后，再制作上电极，形成平板电容器。 由电容计算出薄膜厚度。 * 一般要求λ大于等于10h， 10-3—10-5Pa * 蒸发温度：也有的书上规定物质在饱和蒸气压为1Pa时的温度。 1 torr≈133.322 Pa 若蒸发温度高于熔点，则蒸发状态是熔融的，否则是升华的。 * * * * 显然，在真空条件下物质的蒸发要比常压下容易得多，所需蒸发温度大大降低，蒸发过程也将大大缩短，蒸发速率显著提高。 * 蒸发粒子的平均速度约为1000m/s，对应的平均动能约为0.1-0.2eV。这个数值只占汽化热的很小部分，可见大部分汽化热是用来克服固体或液体 中原子间的吸引力。 蒸发速率是指：单位时间从单位面积上蒸发的质量。 * 真空室的压强一般在10-2Pa以下。保证从源到基片大多