超精密加工表面微观形貌光学测量方法.docVIP

　　 　　 　　， 　　Ra值在几分之一纳米到十几纳米之间。加工超光滑表面的材料主要有光学玻璃、有机玻璃、石英玻璃等光学材料，，，，Talystep触针式轮廓仪分辨率可达0.1nm，测量范围可达100μm），但由于测量时尖锐的金刚石触针极易划伤被测样件的超光滑表面并引起测量误差，因此其在超精密表面测量中的应用受到一定限制。近年来，（STMAFM），（0.1nm，垂直分辨率0.01nm），STM和AFM对测量环境要求苛刻，需要采取良好的隔振措施和配备复杂的传感器运动伺服控制系统，且仪器价格昂贵，测量范围也较小，在实际应用中还需解决精密隔振技术、压电陶瓷的控制等技术难题。自1960年激光器问世以来，，，，，， 　　 　　1.X 　　X1所示。仪器主要由分束器S、镜子M和分析器A构成，它们是在同一晶块上制作的三片互相平行的截面为（111）或（220），，X射线以布拉格角入射到X射线干涉仪上时，，，，，0.19nm，X射线干涉测量法的优点是测量分辨率及测量精度高，， 　　 　　1 X射线干涉仪结构原理图 　　2 　　2所示。激光器输出频率分别为f1、f2的光束，它们分别为左旋和右旋圆偏振光，经过λ/4波片后，3分为两部分。向上反射部分作为参考光束，5聚焦于光电元件6。偏振片4按45°放置，使会聚于光电元件的不同频率的光束因具有相同的偏振方向而发生干涉，再由光电元件把干涉图形的变化转换为电信号送至放大器7。透过分光器3的光束即为测量光束，它通过由透镜16、17组成的望远系统，经平面反射镜15折向渥拉斯顿棱镜12，渥拉斯顿棱镜则把测量光束中两个不同偏振方向的光分开，再通过物镜13会聚于被测工件14表面上的两点，反射光束经物镜13后重新合成一束光，该光束再经透镜10和偏振片11会聚于光电元件9。光电元件9把干涉图形的变化转化为电信号送至放大器8，然后与放大器7上的参考信号进行比相，，，，0.1nm数量级。 　　 　　2 双频激光干涉仪光学原理图 　　3 　　3所示。仪器采用双纵模热稳频激光器1作为光源，波片2将激光束分为参考光束和测量光束。参考光束通过与偏振方向成45°放置的偏振片P45°射到接收参考信号的雪崩二级管3上；测量光束通过分光器2到平面镜5，然后通过方解石棱镜6。通过棱镜6的中心光束，由透镜9聚焦于物镜11的焦面上后成为平行光，11和透镜9的调节，参考臂在试件表面上的光斑直径可在0.1~4mm之间变化。被方解石晶体分开向左的光束作为测量臂，1μm。因此，，，0.5nm。 　　 　　3 同轴激光干涉仪光学原理图 　　4 　　4所示。He-Ne激光器1输出的偏振光束经扩束准直系统2及1/2波片4后进入双焦透镜组5。通过双焦透镜的特殊设计，，6后，，，，，8、9和λ/4波片及检偏器P1、P2后分别产生干涉，两组干涉条纹分别由探测器D1、D2接收。检偏器P1、P2相互垂直并由微型电机11驱动旋转，Ra2nm的垂直分辨率，其缺点是系统结构不紧凑，易受电子器件漂移的影响，回光调整比较困难。 　　 　　4 双焦激光干涉仪光学原理图 　　5 　　1960年Crane首先提出光外差干涉原理以来，5所示为用于纳米测量的光外差马赫—曾德干涉仪的光学原理。图中M1~M4为反射镜；AOM1、AOM2为声光调制器；Mr、Mm分别为参考平面镜和测量平面镜；BE1、BE2为扩束系统；BS1、BS2为分光镜；H1、H2为光阑；PD1、PD2为光电接收器。该仪器的测量原理是通过测量PD1和PD2输出的干涉信号的相位差变化量，从而得到测量镜Mm的位移量d=λΔφ/720（式中λ为激光波长，Δφ的单位为度），， 　　 　　5 光外差干涉仪光学原理图 　　 　　，，，；，，，1，测量重复精度达0.1。光切法和几种光学探针及干涉显微镜测量系统的技术指标见下表。 　　 测量方法 垂直分 　　 横向分 　　 垂直测 　　 研制单位 光切法 1μm 20μm 日本东京大学 光学探针 共焦显微镜 1.5nm 1μm 250μm 德国丰谱公司 离焦误差检测 1nm 1μm 3μm 日本神奈川大学 外差干涉 1 1μm 美国斯坦福大学 微分干涉 1 1μm 4μm 美国罗彻斯特大学 干涉显微镜 Michelson 1 8μm λ/2 美国亚利桑那大学 Mirau 1 1μm λ/2 美国亚利桑那大学 Linik 1 0.5μm λ/2 美国亚桑利那大学 Nomarski 4 λ/2 近年来，表面微观形貌光学测量方法日益受到重视，并在无损检测领域得到了广泛应用，产品也逐步商品化，其中包括FECOinterforemeter等色级条纹法测量仪、Wyko公司的Mirau条纹扫描干涉仪、Zego公司的外差干涉仪等。1984年美国洛克希德导弹公