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- 2016-11-29 发布于广东
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薄膜物理课件14.ppt
第八节 其它物理气相沉积法 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 离子镀膜 第八节 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 其它物理气相沉积法 磁性材料 磁性材料 磁性材料 磁性材料 磁性材料 磁性材料 磁性材料 磁性材料 射频离子镀的特点是: (1) 蒸发、离化和加速三种过程可分别独立控制;离化率介于直流放电型和空心阴极型之间 这种方法由于工作真空度高,故镀膜的绕射性差,射频对 人体有害 (2) 在10-1~10-3Pa的高真空下也能稳定放电,且离化率高,镀层质量好 (3) 易进行反应离子镀膜 (4) 和其他离子镀相比,基片温升低,且容易控制 除了上述所列的离子镀外,还有磁控溅射离子镀、真空电 弧离子镀、空心阴极放电离子镀等 反应蒸发沉积就是使金属蒸气通过活性气氛后,沉积并反应 生成相应的化合物 二、活化反应蒸发沉积 在早期的装置中,对这类活性气体并不施加等离子体激活手 段。这
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