薄膜物理课件8.pptVIP

溅射镀膜的基本原理 溅射镀膜的基本原理 (1) 不同元素的溅射产额相差较小，而不同元素的平衡蒸气压相差太大 溅射镀膜的基本原理 第七节　溅射镀膜法 二、溅射镀膜的特点 溅射镀膜的特点 第七节　溅射镀膜法 三、溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 溅射沉积装置 第七节　溅射镀膜法 二极溅射的膜厚均匀性 二极溅射的膜厚均匀性 基本原理：以磁场来改变电子的运动方向，并束缚和延长 电子的运动轨迹，从而提高了电子对工作气体的电离几率 和有效地利用了电子的能量 磁控溅射中，正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。 同时，受正交电磁场束缚的电子，又只能在其能量消耗殆尽时 才沉积到基片上 磁控溅射具有低温、高效两大特点 磁控溅射典型的溅射条