2015技术交底书的撰写.pptVIP

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  • 2016-12-06 发布于北京
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2015技术交底书的撰写

公开出版物(纸件、电子出版物等形式) 专利文件或非专利文件均可 专利文件:至少要写明国别和公开号,最好包括公开日期 非专利文件:写明标题和详细出处 引证的非专利文件和外国专利文件的公开日应当在本申请的申请日之前;所引证的中国专利文件的公开日不能晚于本申请的公开日 引证外国文件的,应当用原文写明文件的出处及相关信息,必要时给出中文译文;并将译文放置在括号内 引证文件应当满足以下要求: Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0. Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd. 一些交底书中背景技术撰写的缺陷: (i)描述过于简单,只是笼统地一提而过; (ii)即使引用了相关文件,也与发明主题相距甚远,有意或无意地掩盖了最相关的背景技术;或直接写成了背景材料; (iii)故意把背景技术说得一无是处,以此衬托发明的所谓“突出”或“显著”; (iv)对于不重要的背景技术描述很多,对真正相关的背景技术却避而不谈。 Evaluation only. Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0.

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