二次阳极氧化法制备氧化铝模板(AAO)工艺.ppt

 The architecture of nanomaterials using AAO ＮＯ．１１team members 丁俊峰S丁汉平S张龙山S罗　伟S 简介 自从Masuda的论文在科学杂志上发表以来,　二次阳极氧化法制备氧化铝模板（AAO）的工艺越来越多地用于纳米材料的构建。尽管它很早以前就被发现, 但今天它仍是纳米材料领域的研究热点, 并且每年都有很多相关的论文发表,这是因为它是一种实用的、经济的、有竞争力的工艺。在这里，我简单介绍一下关于AAO的纳米材料研究进展，例如用来制 备多种功能材料量子点阵和纳米管。 二次阳极氧化制备多孔氧化铝模板 电化学沉积法制备Fe纳米线阵列：主要是利用镀了金膜的多孔氧化铝在恒电流的条件下，发生了FeSO4的电解反应，从而在氧化铝的孔洞里面沉积Fe，下面就是制备的样品的SEM照片： 溶胶凝胶法制备流程图 制备的sol是比较均匀的流体，所以我们可以利用真空抽吸的方法使它进入多孔氧化铝模板；下面是真空灌注的示意图： 溶胶凝胶结合AAO方法制备的La1.85Sr0.15CuO4纳米线阵列 溶胶－凝胶方法的缺陷 不能直接在液相成相，需要再次烧结或者退火，导致产物为多晶居多 合成溶胶要用到各种有机物，导致烧结过程中放出CO2等气体，降低了产物的致密程度，直接表现在合成的纳米线比较短 溶胶的黏度随温度变化比较大，不同溶胶都可能有各自的最佳灌注黏度，使得AAO模板的填充率难以控制，几乎没有规律可循 利用汇聚离子束刻蚀得到具有人为可控图案的AAO模板 以AAO为基础的复型模板，例如：Ni模板，Co模板 多孔有序Ni模板的形貌照片 在PMMA复模基础上发展制备出UTAM，进而利用UTAM制备功能材料的量子点阵列 离子束沉积方向以及UTAM的深度对于形成的量子点的形貌可以做到人为可控 Thank you! Happy new year! * * 图1 ： 2万倍 La(NO3)3 Cu(NO3)2 和 Sr(NO3)2溶液，按La2-xSrxCuO4的摩尔比混合 蓝色混合溶液 加入柠檬酸 绿色溶液 加入乙二醇混合搅拌加热至沸腾 深蓝绿混合溶液 冷却后加入乙二胺调节PH 棕黑色均匀溶胶 搅拌加热至沸腾 SOL GEL PRECURSOR NANOWIRE 溶胶凝胶模板方法合成一维纳米材料示意图 CdSe 量子点阵列 CdS 量子点阵列 不同的UTAM深度对于量子点的形貌有巨大的影响，可以到圆饼状，半球状，尖锥状的量子点 在UTAM的基础上配合离子束刻蚀技术发展出制备功能材料纳米管。先在衬底上加UTAM，再蒸镀所需要的功能材料，然后用离子束刻蚀，再除去UTAM得到纳米管阵列。 *