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水平加熱平板置於上吹式單孔合成噴流上之混合對流熱傳特性 Tzer-Ming Jeng, Sheng-Chung Tzeng*, Ting-Yin Low 鄭澤明、曾憲中*、羅婷尹 建國科技大學機械工程系暨製造科技研究所 國科會計畫編號：NSC 102-2622-E-270-005-CC3、NSC 102-2221-E-270-003、NSC100-2632-E-270-001-MY3、 NSC 100 2221-E-270-014-MY3 摘要 本研究以實驗方法探討水平加熱平板置於下吹式單孔合成噴流之上的混合對流熱傳特性，合成噴流裝置係以功率5W之小型揚聲器置於垂直之中空圓柱腔體的下端面，利用放大器與訊號函數產生器輸入不同頻率與振幅的電壓函數訊號給揚聲器，使揚聲器膜面產生不同位移量與頻率的震動，進而在中空圓柱腔體的上端面之3mm圓孔噴嘴產生合成噴流(吹出與吸入腔體的淨氣流量為零)，此上吹式合成噴流衝擊於上方的水平加熱平板，理論上將形成正增強之混合對流熱傳效應。本研究固定圓孔噴嘴直徑(d)，影響混合對流熱傳特性的因子包括相對衝擊距離(c/d)、合成噴流吹出(或吸入)頻率(f*)、合成噴流出口處之平均吹出雷諾數(Rej)及加熱面與合成噴流間之葛拉秀夫數(Gr)，實驗結果指出混合對流紐塞數Numix與Gr值的關係並不規則；Rej與f*應為相依關係，Numix會隨Rej增大而上升；(Numix)會先隨(c/d)增加而增大，當c/d增大到特定臨界值時，Numix會產生最大值，然後Numix會隨c/d而減小，此臨界c/d值隨(Rej)、(f*)而變動。 關鍵詞：合成噴流、水平加熱平板、混合對流熱傳、實驗。 1. 前言 合成噴流裝置(Synthetic Jet Device)具有質量輕、低耗能、作動靈敏與構造簡單等優點，應用於航空載具與電子裝置散熱等主動式氣流控制範疇之潛力無窮，不同於葉片風扇，它是藉震動彈性薄片或氣缸-活塞往復運動形成位移量來產生噴氣，流場可分為發展、充分發展以及消散等三個區域，運作時從週遭吸入和噴出的空氣質量約略相同，故又稱為零質量氣流(Zero-Net-Mass-Flow)，但流場仍維持正向動量，目前已有不少學者對合成噴流的熱流機制進行探討。 Wang等人[1]將合成噴流裝置結合印刷電路板，構成一種具機電系統的主動式冷板，並透過商用軟體Fluent建構3-D、暫態、紊流模型為Large Eddy Simulation (LES)之合成噴流數值模型，熱流模擬結果與實驗數據一致，其數值模型可做為相關合成噴流冷卻裝置設計時應用。Greco等人[2]利用揚聲器(喇叭)的膜面震動特性製作合成噴流裝置，並以實驗方法觀察單及雙合成噴流之流動特性，其中，雙合成噴流之吹與吸的動作設計成剛好相反，結果發現當雙合成噴流之間距為3倍與5倍噴孔直徑時，雙合成噴流流動特性與單合成噴流無異，但當間距縮小到只有1.1倍的噴孔直徑時，會觀察到一雙渦圈氣流結構，此特性將使雙合成噴流之核心軸向速度增大，並縮減噴流之寬度。林啟裕與蕭飛賓[3]觀察揚聲器膜面共振所產生之合成噴流，他們設定頻率為40Hz，變動輸入之放大電壓及訊號波型，並指出放大電壓是主要影響合成噴流之噴出流速的因子，流速也會線性比例於膜面位移量相對於腔體長度之比例，此外，他們也指出，膜面向前所形成之噴流壓將驅使噴口邊緣產生一對螺旋氣流向前，而當膜面向後所形成之吸力則不會牽引已噴出之氣流，他們並觀察到合成噴流吹出後，從噴口到遠端下游噴流中心速度共可分成5個區域。葉泳蘭等人[4]以市售壓電晶片製作合成噴流裝置，再以熱線風速計量測噴流速度，並執行煙流場觀測，探討合成噴流裝置之腔體厚度，頻率及電壓等與合成噴流出口速度的關係，並觀察合成噴流對90°C正交之流場的激擾程度，以瞭解合成噴流對流場控制的特性。Li等人[5]探討合成噴流對提升機翼氣動力性能的特性，他們指出在共振頻率下，能產生較大的出口速度，並利用六分力平衡儀測定機翼在合成噴流作用下之升力與阻力變化，結果指出在頻率200Hz下對高攻角產生的升力變化較有效果。林祺峰[6]探討複動式合成噴流腔體的改良，由於複動式合成噴流腔體中冷熱流體的交換是利用主腔體與側邊腔體相反的相位差，將外界冷流體由側邊腔體導引入主腔體內。經分析後發現，將原本設計的主腔體與側邊腔體間的檔體完全截平後，有助於外界的冷流體導引入主腔體內，以維持每一次推出主腔體外的流體保持在一定低溫，在研究過程中也發現側邊腔體孔口處所產生的渦漩可以抵擋住主腔體在推出行程時，部分的流體經由側邊腔體流道流出腔體外，渦漩形成的時間將扮演兩腔體替換率高低的關鍵性角色。林敬淳[7]探討合成噴流致動器應用於主動式控制流場機制，俾能整體評估致動器產生噴射氣流於提昇系統氣動力與操控特性的效益，理論模型基於