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真空镀膜技术 物理学院近代物理实验中心 沈壮志 实验背景 传统水电镀由于对环境的污染及需要使用一些剧毒原料,已经被国家及各级地方政府所限制发展.目前一些企业设立了集中污水处理的水电镀工业园,在一定程度上改变了污水乱排放的现象.但污水处理成本高、能耗高，而且造成水资源的浪费.在此背景下,目前迫切需要寻找一种替代传统水电镀的表面处理方法,使传统水电镀行业进行技术升级、技术改造,既符合国家环保政策,又可以满足产品出口的要求,同时提高出口产品的附加值. 真空电镀相对于传统水电镀有以下优势： 1).沉积材料广泛：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属。 2).节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层厚度可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约材料的目的。 3).无环境污染：由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境没有危害。 所以真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分.真空镀膜技术是利用物理化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用.