微种植支抗关闭正畸拔牙间隙对下颌垂直向位置的影响.docVIP

微种植支抗关闭正畸拔牙间隙对下颌垂直向位置的影响 　　[摘要] 目的 分析应用微种植支抗关闭正畸拔牙间隙对下颌垂直向位置的影响。 方法 选择2008年1月～2011年12月解放军306医院患者20例，将应用微种植支抗的高角正畸拔牙患者进行5项与下颌垂直位置有关的指标测量，对治疗前后指标进行统计学分析。 结果 上颌中切牙（U1）治疗前后[（33.01±2.43）、（30.70±2.53） mm]垂直向位置变化具有高度统计学意义（P 0.01）；上颌第一磨牙（U6）平均压低治疗前后[（23.93±1.99）、（22.78±2.02） mm]垂直向位置变化具有统计学意义（P 0.05）；治疗前后下颌平面角及合平面角（GOGN-SN、FMA、Occp-FH）变化差异具有统计学意义（P 0.05）。 结论 种植支抗辅助高角拔牙正畸治疗后，上颌中切牙及上颌第一磨牙呈现一定程度压低，下颌平面角及合平面角减小，下颌产生一定程度逆时针旋转。 　　[关键词] 微种植体支抗；高角面型；正畸拔牙矫治 　　[中图分类号] R782.11 [文献标识码] A [文章编号] 1673-7210（2013）04（c）-0014-03 　　正畸矫治实质上是牙、合、颌、面三维的动态变化过程，传统的正畸学实践及理论对于矫治过程中牙合的矢状向变化关注度颇高，而同样与面部平衡、美观相关的牙合垂直向异常也是正畸治疗的重要方面。随着正畸学发展的深入，正畸矫治牙合垂直向异常特别是牙颌垂直向发育过度已然成为热点[1-3]。 　　微型种植体辅助正畸拔牙矫治，国内外报道已较多，其矢状向绝对支抗作用的结论已经非常明确[4-5]。但此过程中对于牙弓及下颌垂直向位置的影响如何，国内尚未见详尽临床报道。本研究通过对比微种植支抗辅助高角拔牙患者正畸治疗前后五项垂直指标的变化，分析此过程中牙弓及下颌骨垂直向的变化，旨在为正畸临床中牙合垂直向过度患者治疗提供一定参考依据。 　　1 资料与方法 　　1.1 一般资料 　　2008年1月～2011年12月在解放军306医院口腔中心正畸治疗的患者中，选取年龄18～36岁，GOGN―SN≥35°的下颌偏高角患者，且治疗计划设计为应用微型种植体支抗，拔除上颌两颗第一前磨牙，下颌两颗第一或者第二前磨牙者。共20例（男8例，女12例），其中骨性Ⅰ类患者9例（0.7°≤ANB4.7°），骨性Ⅱ类患者11例（ANB≥4.7°）；年龄平均25.4岁（注：GOGN―SN代表患者下颌平面角，ANB代表患者上下颌差角）。 　　1.2 种植体植入手术 　　选用德国进口Medico公司产微钛钉正畸种植体，规格：1.5 mm×11.6 mm。局部麻醉作用下，于第一磨牙与第二前磨牙之间颊侧，垂直距离游离龈缘6～8 mm处植入正畸微种植体。其中3例患者上下颌各植入两颗微种植体，余17例只上颌植入两颗微种植体。 　　1.3 矫治程序 　　正畸治疗采用MBT直丝弓矫治技术。①全面牙周治疗，牙周复查健康后始行正畸治疗。②分2次拔除4颗前磨牙；同时微型种植体植入（治疗过程中，两颗微种植体出现松动脱落现象，约2个月后重新植入，后未现脱落）。③粘接直丝弓矫治器，尽早将第二磨牙纳入矫治体系，依次Ni-Ti圆丝及方丝进行上下颌的排齐整平。④0019*0025不锈钢方丝摇椅弓入槽（上下颌约10°的反向曲度），两侧尖牙近中、侧切牙远中的主弓丝上置牵引钩，利用微种植体及Ni-Ti拉簧（初始150 g/侧，每月定值加力），滑动法进行牙弓前部整体回收。⑤关闭间隙后，继续保持拉簧后上方牵引至治疗末期，同时行上下颌间牵引，咬合精细调整。 　　1.4 研究方法 　　X线头影测量分析：选取反映正畸患者牙弓及下颌骨垂直向特征的测量指标5项[6]。如图1所示，PP指腭平面，即前、后鼻嵴点的连线（ANS-PNS）；U1-PP指上颌中切牙点至腭平面的垂直距离，代表U1垂直向位置；U6-PP指上颌第一磨牙近中颊尖点至腭平面的垂直距离，代表U6垂直向位置；GOGN―SN，FMA及Occp-FH代表下颌平面角及合平面角。每位患者治疗前后均拍摄了X线头颅定位侧位片，将其输入Onxy-Ceph2.6（Copyright 2003 Image Instruments GmbH， All rights reserved）进行定点，取得测量值；1周后再次定点测量，要求两次测量结果的绝对值差不大于0.1，取两次平均值作为纳入值。否则，重新定点量取，直至符合要求，取最后两次测量值的平均值作为纳入值。 　　1.5 统计学方法 　　采用SPSS 13.0软件完成。计量资料数据以均数±标准差（x±s）表示，20例患者的5项硬组织测量指标的治疗前后均值基本服从正态分布。应用配对样本t检验分析评价5项垂直