第二章真空技术基础83058.pptVIP

真空的获得 ? 真空材料 Outgassing rates （除气速率） Producing “virtual” leaks （产生气体虚漏） Mechanical stability（机械稳定性） Temperature stability（温度稳定性） Conductivity（热导率） Chemical inertness（化学惰性） Weldability（可焊接性） 真空材料应考虑的问题： * 第一章 真空技术基础 王清周 河北工业大学材料学院 真空的基本知识 稀薄气体的基本性质 真空的获得 真空的测量 内容提要 真空的 基本知识 为了使被研究的样品不被周围气氛所污染，获取“原子清洁”的表面，薄膜制备和衬底表面形成过程往往是在真空或超高真空中进行的。目前，人们所广泛使用的薄膜制备系统都具有真空系统。 真空： 低于一个大气压的气体空间。 真空的 基本知识 一、真空及其单位： 1. 单位：帕斯卡（Pascal）：Pa 旧的单位： Torr mmHg bar atm 2. 气体分子密度n 气体分子密度 标准状态： P = 105Pa，T=273.15K n = 2.6?1025个/m3 超高真空P = 1.3 ? 10-11Pa，T=293K n = 3.2?109个/m3 杂质 = 本底压力（真空度） 稀薄气体的基本性质 3. 真空高低的描述 真空的 基本知识 Atmospheric: 760 Torr Low Vacuum: 1 to 1x10-3 Torr Medium Vacuum: 1x10-3 to 1x10-5 Torr High Vacuum (HV): 1x10-6 to 1x10-8 Torr Ultra-High Vacuum (UHV): 1x10-9 Torr 二、 真空的划分 真空的基本知识 ? 真空的意义 Monolayer Coverage Time For an ideal gas, the time needed for monolayer coverage is given by: tML ? 1015/ J where J is impingement rate. 三、气体与蒸汽 稀薄气体的基本性质 一、理想气体定律 波义尔（T一定）、盖·吕萨克（P一定）、查理（V一定） 二、麦克斯韦速率分布律 （一）麦克斯韦速率分布函数 （二）麦克斯韦速率分布定律 稀薄气体的基本性质 气体分子的速度分布 最可几速度、平均速度、均方根速度 平均自由程 λp = const. 碰撞次数和余弦散射率 碰撞次数（入射频率或入射通量）：单位时间内在单位面积器壁上发射碰撞的气体分子数。 赫兹-克努曾（Hertz-Knudsen）公式： 稀薄气体的基本性质 104 5 x 105 3 x 1012 10-10 UltraHigh 1 50 3 x 1016 10-6 High 10-3 5 x 10-2 3 x 1019 10-3 Medium 10-6 5 x 10-5 3 x 1022 1 Low 10-9 7 x 10-8 2 x 1025 760 Atmospheric Time / ML, tML (s) Mean Free Path(m) Gas Density, ρ (molecules m-3 ) Pressure (Torr) Degree of Vacuum ? 稀薄气体的参数 P ~ 10-10 Torr Maintain a Clean Surface: P ~ 10-6 Torr Collision Free Conditions: 稀薄气体的基本性质 碰撞于固体表面的分子，其飞离表面的方向与原入射方向无关，并按与表面法线方向所成角度的余弦进行分布。 一个分子离开固体表面时，处于立体角 中的几率为： 理论与实验研究证明了如下的余弦定律。 ? 余弦定律 定义：球面面积除以球半径的平方称为立体角，单位：sr(球面度) 立体角 立体角定义图 计算微元立体角的几何关系 余弦定律（又称克努曾定律），重要意义在于： 它揭示了固体表面对气体分子作用的另一个方面，即分子原有的方向性彻底“消除”，均按余弦定律散射。 分子在固体表面上要停留一定的时间，这是气体分子能够与固体进行能量交换和动量交换的