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- 2016-12-28 发布于重庆
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3 国家自然科学基金资助课题
采用磁控管方式溅射的电子回旋共振
等离子体沉积技术的研究3
汪建华 袁润章
(武汉工业大学, 武昌430072)
邬钦崇 任兆杏
(中科院等离子体物理研究所)
喻宪辉
(湖北省交通学院)
摘要 将磁控管方式溅射用于微波ECR 等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度C 轴取
向的ZnO 薄膜, 其膜的沉积速率比普通ECR 溅射中所得到的速率大得多, 并且在5 12cm 的膜区域内
显示出良好的均匀性。
关键词 磁控管方式 溅射 ECR 等离子体 ZnO 薄膜
Study of an Electron Cyclotron Resonance Pla sma Depos it ion
Techn ique byMagnetron M ode Sputter ing
W ang J ianhua, Yuan Runzhang, W u Q inchong, Ren Zhaox ing, Yu Xianhu i
(W uhan P oly technic U niv. , W uchang 430072)
Abstract M agnet ron mode spu t tering w as app lied to an elect ron cyclo t ron reso2
nance (ECR ) p lasm a depo sit ion t
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