[第八讲-薄膜的图形化技术.pptVIP

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  • 2017-01-06 发布于北京
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[第八讲-薄膜的图形化技术

薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials Nanotechnology 北京科技大学材料科学学院 唐伟忠 Tel: 6233 2475 E-mail: wztang@ 课件下载网址: wztang_teaching@ 下 载 密 码: 123456 第八讲 薄膜材料的图形化 Patterning of thin films 提 要 薄膜图形化的光刻技术 光刻使用的等离子体刻蚀技术 等离子体刻蚀机制 未来的纳米光刻技术 薄膜沉积与其刻蚀技术 八层布线的集成电路的断面形貌 以光刻技术在薄膜表面获得图形 光刻所用的掩膜 半导体技术中所采用的光刻技术 Automatic coat and develop track 光刻过程中的暴光方法 光刻过程中的暴光 ——GCA 6700 STEPPER 光刻流程中的刻蚀 以化学溶剂法实现光刻图形时的情况 等离子体刻蚀 等离子体刻蚀 等离子体刻蚀的监测 对等离子体刻蚀技术的要求 等离子体刻蚀的微观过程 等离子体刻蚀过程的速率 等离子体刻蚀过程的选择性 等离

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