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2017届高考化学一轮复习第四章常见的非金属及其化合物解析
第四章 常见的非金属及其化合物
第1节 碳、硅及无机非金属材料
[高考导航]
1.了解碳、硅单质及其化合物的主要性质及应用。
2.了解碳、硅及其化合物对环境质量的影响。
3.了解常见无机非金属材料的性质和用途。
1.单质的存在形式、物理性质和用途
碳 硅 存在形式 游离态和化合态 化合态 单质的结构 金刚石:空间网状结构;石墨:层状结构 晶体硅:与金刚石类似的空间网状结构 物理性质 金刚石:熔点高、硬度大;石墨:硬度小、电的良导体 晶体硅为灰黑色固体,有金属光泽、熔点高、硬度大,有脆性 用途 金刚石用于制造切割刀具,石墨用于制造电极、铅笔芯 晶体硅用作半导体材料、硅芯片和硅太阳能电池 2.化学性质
碳、硅在参与化学反应时,一般表现还原性。
问题1 硅单质的特殊性
(1)Si的还原性大于C,但C却能在高温下还原出Si:SiO2+2CSi+2CO↑。
(2)非金属单质与碱液反应一般无H2放出,但Si与碱液反应却放出H2:Si+2NaOH+H2O===Na2SiO3+2H2↑。
(3)非金属单质一般不与非氧化性酸反应,但Si能与氢氟酸(HF)反应:Si+4HF===SiF4↑+2H2↑。
(4)非金属单质大多为绝缘体,但Si为半导体。
[对点练] 1.常温下,下列不发生反应的一组物质是( )
①硅与NaOH溶液 ②硅与盐酸 ③硅与氢氟酸 ④二氧化硅与碳酸钠 ⑤二氧化硅与NaOH溶液
A.①② B.③④
C.②⑤ D.②④
解析:选D ①中发生反应Si+2NaOH+H2O===Na2SiO3+2H2↑;硅不与除氢氟酸外的其他酸反应,②不反应;③反应;④中二氧化硅与碳酸钠反应需要高温,常温下不反应;⑤中发生反应SiO2+2NaOH===Na2SiO3+H2O。
问题2 硅的工业制法
(1)制取粗硅
工业上,用焦炭在电炉中还原SiO2得到含有少量杂质的粗硅:SiO2+2CSi+2CO↑。
(2)粗硅提纯
①Si+2Cl2SiCl4,SiCl4+2H2Si+4HCl。
②Si+3HClSiHCl3+H2,
SiHCl3+H2Si+3HCl。
(3)注意问题
①用焦炭还原SiO2,产物是CO而不是CO2。
②粗硅中含碳等杂质,与Cl2反应生成的SiCl4中也含CCl4等杂质,经过分馏提纯SiCl4后,再用H2还原,得到高纯度硅。
[对点练] 2.获取知识和信息是现代人不可缺少的素质,信息产业的飞速发展离不开材料科学的推动,信息产业的核心材料是高纯度单晶硅。下面是高纯度单晶硅的生产方法之一(方法一):SiO2Si(粗硅)SiHCl3(沸点31.5 ℃)Si高纯硅单晶硅。
近代用得较多的另一种方法(方法二):用金属硅化物(Mg2Si)与盐酸作用制得硅烷(SiH4);再热分解硅烷可得高纯硅。
(1)从方法一生产单晶硅的过程看,由碳还原得到的硅还要进一步处理的原因是
______________________________________________________________________ 。
(2)写出方法二中生产高纯硅的两个化学方程式为:
①________________________________________________________________________;
②________________________________________________________________________。
解析:(1)根据方法一的生产流程,可得反应式:SiO2+2CSi(粗硅)+2CO↑,所得的粗硅中含有大量的其他杂质(如C、SiO2等),没有实际应用价值,将粗硅用HCl、Cl2处理转化为沸点低的SiHCl3,化学方程式为Si+Cl2+HClSiHCl3,低沸点的SiHCl3通过蒸馏极易分离提纯,然后将纯的SiHCl3在高温下用H2还原即可得到纯度高的Si蒸气:SiHCl3+H2Si+3HCl,再进行气相沉淀即可制得高纯度的硅,从而得到单晶硅。(2)Mg2Si 与盐酸作用制得SiH4,根据原子守恒可知另一种生成物为MgCl2,其化学方程式为Mg2Si+4HCl2MgCl2+SiH4↑,再将SiH4进行热分解即可得到高纯硅和H2,其化学方程式为SiH4Si+2H2。
答案:(1)由C还原SiO2得到的单质Si中,杂质含量过高,将它用HCl、Cl2处理得到低沸点的SiHCl3,便于蒸馏提纯,然后再还原得到高纯硅
(2)①Mg2Si+4HCl===2MgCl2+SiH4↑
②SiH4Si+2H2
1.下列说法正确的是( )
A.单质氧化物酸或碱盐,碳或硅单质可以按上述关系进行转化
B.若a、b、c分别为Si、SiO2
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