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- 2017-01-20 发布于北京
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材料现代分析方法试题
一、基本概念题(共 10题,每题 5分)
1.什么是光电效应?光电效应在材料分析中有哪些用途?
2.当波长为λ的X射线在晶体上发生衍射时,相邻两个(hkl)晶面衍射线的
波程差是多少?相邻两个HKL干涉面的波程差又是多少?
3.测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成 30 0角,则计数管
与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面是何种几何关
系?
4.宏观应力对 X射线衍射花样的影响是什么?衍射仪法测定宏观应力的方法
有哪些?
5.薄膜样品的基本要求是什么? 具体工艺过程如何? 双喷减薄与离子减薄
各适用于制备什么样品?
6.图说明衍衬成像原理,并说明什么是明场像、暗场像和中心暗场像。
7.说明透射电子显微镜成像系统的主要构成、安装位置、特点及其作用。
8.何为晶带定理和零层倒易截面? 说明同一晶带中各晶面及其倒易矢量与
晶带轴之间的关系。
9.含苯环的红外谱图中,吸收峰可能出现在哪4个波数范围?
10.陶瓷纳米/微米颗粒的红外光谱的分析样品该如何制,为什么?
二、综合及分析题(共 5题,每题 10分)
1.请说明多相混合物物相定性分析的原理与方法?
2.对于晶粒直径分别为100,75,50,25nm的粉末衍射图形,请计算由于晶粒细化引起的衍射线条宽化幅度 B(设θ=450,λ=0.15nm
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