激光技术第一讲（参考）.pptVIP

2．横向电光调制 1．KDP类的横向运用（三种） xoz平面 xoy平面 Y? yoz平面 现以KDP类的第一种运用方式为例进行讨论: 强度调制中，影响输出光强的主要因素是??，入射光的偏振方向和x?轴成45°角（在x?oz平面内） 由于在z向加电场，所以三个感应主轴的折射率和纵向运用相同。 由于沿y’方向通光，光在晶体中分解为沿x’和z方向振动的两束光。 e，o光的折射率: 这两束光通过晶体后的位相差为: 第一项是与外加电场无关的晶体本身的自然双折射引起的相位延迟，这一项对调制器的工作没有作用，相反，当晶体温度变化时会增加附加的相位差，造成??随温度变化，工作不稳定，必须消除这种影响。 第二项是外加电场作用产生的位相差。不仅与V有关，而且与晶体的尺寸L/d有关，合理选择晶体的尺寸增大L/d ，则可降低晶体的半波电压V?/2。 横向运用的最大优点是半波电压比纵向运用低得多，在实际应用中，主要采用一种”组合调制器“的结构予以补偿。 4.2.3 电光相位调制器 相位调制即是用调制信号的规律来改变激光振荡的相位角。由起偏器和KDP电光晶体组成，起偏器的偏振轴平行于晶体的感应主轴x?，电场沿z方向加到晶体上，入射晶体的线偏振光不再分解，沿x?轴一个方向偏振，外电场不改变出射光的偏振状态，仅改变其相位。 相位调制器的结构 x?轴折射率为： 输出电场（z=L处）： 外加电场 略去常数项： 相位调制系数： 4.2.4．电光波导调制器 1.体调制器：前面讲的各种电光调制器，具有较大体积尺寸的分离器件。 特点：几乎整个晶体材料都受到外加电场的作用，需要较强的电场（缺点） 2.光波导调制器： (1)定义：把激光器、调制器、探测器等有源器件“集成”在同一衬底上，并通过波导、耦合器等无源元件连 接起来，构成一个完整的微型光学系统。 (2)分类： 光波导调制器的特点： a.加电场的区域很小，薄膜附近。薄膜厚度微米量级。驱动功率比体调制器小1-2个数量级。材料的要求：至少有一 种满足调制器的要求，材料有确定的相对固定的折射率。 b.利用电光、声光控制时，折射率的变化，使两传播模间有一相位差。与体调制器不同的地方：由于外场的作用导致波导中本征模（如TE模和TM模）传播特性的变化以及两 不同模式之间的耦合转换（模耦合调制）。 2.电光波导调制器的调制原理 参考： A.Yariv, Quantum Electronics, 2rd edition, John Willy Sons 模振幅 传播常数 模耦合系数 通常可简化：如果波导中电光材料均匀，加电场均匀。TE，TM完全限制在波导薄膜层中，阶次相同，m=l，这时积分取极大值。这时，TE模和TM模的场分布几乎相同，仅电矢量的方向不同。且 如果相位匹配 ，则 要获得完全的TE?TM功率转换，必须满足： 无转换时： 波导调制器的输出光强(TM)与输入光强之比为： d-波导薄膜厚度 I/I0 2.电光波导相位调制 设传播的波为TM波，电场方向Ez，相位变化： 对于电光波导相位调制，不存在不同模之间的互耦合。 自学：?yy的确定 3.电光波导强度调制 在LiNbO3晶体作为波导基片的沉底上，用射频溅射刻蚀法制造Ti扩散分叉条状波导，条状波导中间和两侧制作表面电极。两个分路的光在电光效应区受到相位调制，它们再相遇时，两个线偏光相干合成而实现强度调制。相位差为： 提高调制深度及减小插入损耗的措施： 1、张角不宜太大 2、单模设计 3、结构设计上严格对称 4.2.5.电光偏转 应用：激光显示、传真和光存储 实现方式：机械转镜、电光效应和声光效应 偏转类型：模拟偏转、数字偏转 1. 电光偏转原理 电光偏转利用电光效应来改变光束在空间的传播方向 如果晶体的折射率是坐标的线性函数 A线和B线通过晶体所需时间 A线相对B线落后距离 双KDP楔形棱镜偏转器 由两块KDP直角棱镜组成，两块晶体的z轴反向平行，电场沿z轴方向，光线沿y?方向传播且沿x?方向偏振。上部的A线完全在上棱镜中传播，“经历”折射率为 在输出端晶体内，偏转角为 光束输出晶体后的偏转角为 而在下棱镜中，因电场相对于z反向，故B线“经历”的折射率为 故上下折射率之差为 偏转角为 2. 电光数字式偏转 由电光晶体KDP和双折射晶体方解石构成。 未加电压时，光波通过S后偏振态不变，通过B时方向仍保持不变。 加半波电压时，入射光通过S时偏振面旋转90°，而变成e光，通过B产生位移b。 电光晶体和双折射晶体构成一个一级数字偏转器，把n个这样的数字偏转器组合起来，就能做到n级数字式偏转。 * * 激光技术-第一讲 电光调制 调制的基本概念 第四章 激光调制与偏转技术 一、调制的基本