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半导体产业-树德科技大学
樹 德 科 技 大 學
工業管理系
高科技產業研究
期末作業
半導體產業分析
學生 姚永紘 周英吉 蕭智威
指導教授:陳永璋 教授
一、緒論
半導體是電子產品的重要零組件,因此一國半導體產業之盛衰,代表其電子產業興盛與否,半導體產業強大者,即表示其電子產品也立於不敗之地:半導體產業是高技術密集及高資本密集的產業,故半導體技術能力,也展現了一個國家在科技產業上之地位;為什麼美、日、韓、及歐洲工業化國家各政府每年均大幅支援其國內半導體產業研發,將其列為優先發展產業?此為其主要原因吧!我國電子產業在政府長期支持及業者努力下,已是我國第一大產業,其賴以持續成長之要件在於國內半導體產業技術國際競爭能力,面對國際強烈之競爭環境,二、 半導體(Semiconductor)經過四十多年的發展,已經成為各種電子資訊產品中,不可或缺的核心關鍵零組件,更與我們的日常生活息息相關。在資訊網路、電子商務、行動通訊、生活自動化、無紙文書等高成長的趨勢帶動下,相關電子產品將會持續蓬勃發展,而這些產品的內部核心-半導體,必將扮演更重要的角色。
? 半導體自1947年由貝爾實驗室開發出第一顆電晶體後,為電子產品劃下了歷史的新頁:電子產品不再靠真空管來作為核心,開始能夠朝向輕、薄、短、小的新世紀邁出了一大步。而全球第一顆積體電路(Integrated Circuit; IC)則在1958年被美國德州儀器(Texas Instruments;TI)公司開發成功,從此又取代電晶體(Transistor)成為半導體世界的盟主;同時成為下游廣大應用電子產品的主要關鍵零組件。
2-1 半導體的定義與製造流程
所謂的半導體,是指在某些情況下,能夠導通電流,而在某些條件下,又具有絕緣體效用的物質;而至於所謂的IC,則是指在一半導體基板上,利用氧化、蝕刻、擴散等方法,將眾多電子電路組成各式二極體、電晶體等電子元件,作在一微小面積上,以完成某一特定邏輯功能(例如:AND、OR、NAND等),進而達成預先設定好的電路功能。隨著技術的進步,在一單一晶片聚集佰萬顆以上電晶體的IC,已非難事。
????一般而言,一顆IC的完成,通常先後需經過電路設計、光罩製作、晶片製造、晶片封裝和測試檢查等步驟,請參考圖一。
????IC的上市,挾其輕、薄、短、小、省電、多功能、低成本等特長,席捲大半的半導體市場,成為半導體的主流產品。若按其製程技術來區分,可大略分為Bipolar和MOS ( Metal Oxide Silicon )二大類。其中Bipolar製程技術發展較早,但集積度較低且較耗電,除少數特定用途需較快工作速度和耐較高電壓的場合外;MOS製程的產品已攻佔了絕大多數的應用市場。
圖一 IC製造流程 資料來源:工研院經資中心ITIS計畫,2000年9月?
2-2 半導體產業的發展簡史
1947年第一顆電晶體發明成功,結束了真空管的時代,而1958年TI開發出全球第一顆IC成功,又意謂宣告電晶體的時代結束,IC的時代正式開始。從此開始各式IC不斷被開發出來,集積度也不斷提升。從小型積體電路(SSI),每顆IC包含10顆電晶體的時代;一路發展MSI、LSI、VLSI、ULSI;到現在韓國、日本等半導體大廠已陸續開發出Giga級 DRAM,這也意謂著GSI時代即將開始。
表一 半導體發展的大事記
年度 里程碑 廠商 時代 1904 發明二極真空管 Fleming 真空管 1906 發明三極真空管 - 1947 發明電晶體 Bell Lab 電晶體 1951 採用Gallium Arsenide材料 Siemens 1953 發表矽太陽電池 Bell Lab 1954 發表Zener二極體 NS 1956 發表Silicon Controlled Rectifier General Electric 1958 首顆IC開發完成 TI SSI
(101) 積
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體
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電
路 1961 第一顆商用IC上市 Fairchild、TI 1963 發表TTL Logic IC Sylvania 1963 發表Linear IC Fairchild、TI 1964 發表MOS IC General Microelectronics MSI
(102) 1968 發表CMOS IC RCA 1969 ROM上市 Electronic Arrays 1970 計算器用單顆IC上市
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