光阻涂布.pptVIP

微影技術 學生：黃順源 學號：M97L0212 指導老師：鄒文正 老師 報告日期：98/05/27 OUTLINE 前言 微影技術 微影製程 結論 前言 微影技術是圖案化製程中將設計好的圖案從光罩或倍縮光罩上轉印到晶圓表面的光阻上時所使用的技術 半導體產業則是在1950年採用微影技術來製造電晶體和積體電路 微影製程是IC生產中最重要的一道製程步驟 微影技術 高的解析度 高的感光度 精確的對準性 低的缺陷密度 微影製程 晶圓清洗製程 預烤和底漆層蒸氣塗佈 正負光阻的圖案化製程 正、負光阻優缺點 光阻塗佈 邊緣球狀物移除法(EBR) 光阻厚度與自旋轉速在不同的黏滯係數下的關係 軟烘烤 使光阻中的溶劑大部分被汽化驅逐 溶劑使光阻易形成薄膜，但是也會吸收輻射影像附著力 過度烘烤: 過早的聚合作用，曝光度不靈敏 烘烤不足: 影像附著力和曝光不靈敏 烘烤系統 對準和曝光 IC製造中最關鍵的製程 IC生產工廠中最昂貴的工具 最具挑戰性的技術 決定圖案上的最小尺寸 目前的 0.18 mm 將向 0.13 mm推進 對準和曝光的工具 接觸式印像機 鄰接式印像機 投影式印像機 掃描投影式曝光系統 接觸式印像機 最簡單的設備 在1970年代中期以前使用 解析力: 可達到次微米 與晶圓光罩直接接觸，限制了光罩的壽命 鄰接式印像機 光罩距晶圓表面約~ 10 mm 沒有直接的接觸 光罩的壽命較長