レジストプロセスの基本 -tyota-t.docVIP

特集解説 レジストプロセスの基本 正 員 佐々木 実＊ Basics of Resist Process Minoru Sasaki＊, Member Basics of resist process are described including the practical techniques. The proximity patterning is cost-effective process having the potential realizing arbitrary 2-3μm width pattern. After explaining the standard processes and mechanisms, some issues in MEMS region is described. キーワード：レジストプロセス，フォトリソグラフィ Keywords：resist process, photolithography はじめに ある。大学ではよく行われるが，丸型ウェハをダイシング して，小さなチップ状にして使っている。この際のゴミと フォトリソグラフィの基本は，基板面一括の並列処理で 考えられる。基板洗浄としては，ピラニア溶液（硫酸と過 ある。工具を利用する機械加工と比較すると，微細にでき 酸化水素水）等，強い化学薬品による処理を学ぶ。実は，