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精曜新能源 ALC-200 PECVD 等离子体增强化学气相沉积量产平台 适用于 1,100 x 1,400mm, 1,100 x 1,300mm, 2 张 635 x 1,245mm 基板尺寸、生产硅基薄膜非晶/微晶 双结太阳电池组件与非晶硅/晶体硅异质结太阳电池 可搭载各式镀膜腔 PECVD 等离子体增强化学气相沉积 制备非晶硅、微晶硅吸光层 制备异质结太阳电池所需非晶硅层 LPCVD 低压化学气相沉积 制备透明导电电极层(TCO) 客制化镀膜腔与组合系统 精曜接受客制化的镀膜腔设计订单与系统并提供工程技术服务  模块化架构 每台镀膜腔可以单独制备单结非晶硅、单结微晶硅或分别制备 p, i, n 吸光层， 系统亦可升级制备多结迭层膜层与接受新材料的生产 工艺可调范围宽广 可调式电极距提供镀膜速率控制能力、可编程压力与硅烷比例容许调整结晶程度 最经济的生产系统组合 每条线性并行滑轨系统可以配套至多台镀膜腔装备 创新设计 量产系统符合节能环保、避免大型真空传输腔体的设计、并已取得中美专利 人性化控制 实时动态显示提供直观的操作 系统尺寸 模块化架构，依所需系统的产量而定 应用技术 硅薄膜非晶(a-Si) /微晶(μc-Si)双结(Tandem)工艺、异质结电池工艺 基板规格 玻璃基板：1,100 mm x 1,400 mm x 3-5 mm, 1,100 mm x 1,300 mm x 3-5 mm, 2 x 635 mm x 1,245 mm x 3-5 mm 异质结晶体硅载板：63 或 72 片 156 x 156 芯片、或客制化尺寸 非晶硅单结、非晶硅/微晶硅双结、异质结非晶硅 电源功率：可选配 10kW 电源激发频率：可选配 13.56 MHz、40.68 MHz 电极距：10 mm - 30 mm 镀膜功能 基板温度：150°C - 250°C 工作压力范围：0.5 - 20 Torr 镀膜速度：非晶硅层 1 - 4 A/s；微晶硅层 4 - 7 A/s 结晶度可控制范围：20% - 80% 镀膜不均匀度 ≤ ±10% 操作环境：真空、保温 传输方式 方式：机械手臂 最高产量：依所选取的系统组合而定 腔体镀膜清洁 可选择 NF3/F2 清洁方式 (RPS 选项) 无尘室规格 100,000 级 周边规格 依客户需求提供 制造厂商保留修改规格的权利 精曜(苏州)新能源科技有限公司 Archers Systems USA Inc. 精曜科技股份有限公司 苏州市吴中区吴淞江大道 1 号 吴中出口加工区二期八号标准厂房 47448 Fremont Blvd., Fremont, CA94538, USA 台北市敦化南路二段 76 号 17 楼之 2 新竹科学工业园区新竹市展业二路 2 号 3 楼 Tel: +86-512-6597-3639 Tel: +1-510-440-0842 电话：+886-2-2325-9918 Fax: +1-510-440-0849 传真：+886-2-2325-8918 官网：www.ArchersS 邮箱：Service@ArchersI  ALC-200 PECVD Acceptable substrate size of 1100 x 1400mm, 1100 x 1300mm, 2 x 635 x 1245mm, for heterojunction crystalline, amorphous, microcrystalline tandem thin film solar PV cell mass production Multi-Coater Production Platform PECVD Coating Chamber Amorphous microcrystalline silicon layer for tandem amorphous silicon layer for heterojunction cell LPCVD Coating Chamber Transparent Conductive Oxide (TCO) film Customized Coating Chamber and Platform Available upon request  Modularized System Stand-alone coating chambers are equipped with standard modularized vacuum and power supply. System can be upgraded for advanced process. Wide Process Windows