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第三章 光的干涉 分波面干涉 分波面干涉装置 按照分光方法不同，干涉装置可分为两类：分波面装置和分振幅装置 典型的分波面干涉装置 杨氏实验装置 菲涅耳型分波面装置（双面镜、双棱镜、洛埃镜等） 光栅等 分波面干涉 杨氏实验——分波面的双光束干涉 分波面干涉——杨氏实验 干涉强度和杨氏条纹性质（理想光源） 光源S0位于y轴上 分波面干涉——杨氏实验 杨氏条纹强度分布 设S1和S2在P点强度均等于I0 分波面干涉——杨氏实验 杨氏条纹基本特性 亮纹条件 暗纹条件 第m级亮纹位置 沿x方向空间频率 空间周期（条纹间距） 分波面干涉——杨氏实验 杨氏条纹反衬度 分波面干涉——杨氏实验 干涉会聚角表示的条纹间距和空间频率 干涉会聚角：菲涅尔近似条件下，在观察点处两条相干光线的夹角 分波面干涉——杨氏实验 干涉强度和杨氏条纹性质（理想光源） 光源偏离yz平面 分波面干涉——杨氏实验 杨氏条纹强度分布 设S1和S2在P点强度均等于I0 分波面干涉——杨氏实验 杨氏条纹强度分布特点 光源S0是位于y轴上的理想光源时，杨氏条纹是一组强度呈余弦函数分布，全对比，平行于z轴的平行等距直条纹，零级条纹位于x=0处 当光源S0在干涉装置的对称面内平移（沿?方向）时，不改变光源空间的对称性，不影响S1和S2的初位相差，因此杨氏条纹不变 当光源S0偏离干涉装置的对称平面，即沿?轴平移一