第1章半导体器件基础.ppt

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* * * * * * * * * * 2.N沟道耗尽型MOSFET 特点: 当uGS=0时,就有沟道,加入uDS,就有iD。 当uGS>0时,沟道增宽,iD进一步增加。 当uGS<0时,沟道变窄,iD减小。 在栅极下方的SiO2绝缘层中掺入了大量的金属正离子。所以当uGS=0时,这些正离子已经感应出反型层,形成了沟道。 定义: 夹断电压( UP)——沟道刚刚消失所需的栅源电压uGS。 * * N沟道耗尽型MOSFET的特性曲线 输出特性曲线 转移特性曲线 1 GS u 0 1 D (V) -1 2 -2 (mA) 4 3 2 i 4 2 u u 3 10V =+2V 1 DS GS D (mA) i = -1V u GS GS GS =0V =+1V u u (V) = -2V=UP GS u UP * * 3、P沟道耗尽型MOSFET P沟道MOSFET的工作原理与N沟道 MOSFET完全相同,只不过导电的载流子不同,供电电压极性不同而已。这如同双极型三极管有NPN型和PNP型一样。 * * * * 表1―2 各种类型的FET的特性 * * 表1―2 各种类型的FET的特性 4. MOS管的主要参数 (1)开启电压Uth (2)夹断电压UP (3)跨导gm :gm=?iD/?uGS? uDS=const (4)直流输入电阻RGS ——栅源间的等效电阻。由于MOS管栅源间有sio2绝缘层,输入电阻可达109~1015。 * * 本章小结 1.半导体材料中有两种载流子:电子和空穴。电子带负电,空穴带正电。在纯净半导体中掺入不同的杂质,可以得到N型半导体和P型半导体。 2.采用一定的工艺措施,使P型和N型半导体结合在一起,就形成了PN结。PN结的基本特点是单向导电性。 3.二极管是由一个PN结构成的。其特性可以用伏安特性和一系列参数来描述。在研究二极管电路时,可根据不同情况,使用不同的二极管模型。 4.BJT是由两个PN结构成的。工作时,有两种载流子参与导电,称为双极性晶体管。BJT是一种电流控制电流型的器件,改变基极电流就可以控制集电极电流。BJT的特性可用输入特性曲线和输出特性曲线来描述。其性能可以用一系列参数来表征。BJT有三个工作区:饱和区、放大器和截止区。 6.FET分为JFET和MOSFET两种。工作时只有一种载流子参与导电,因此称为单极性晶体管。FET是一种电压控制电流型器件。改变其栅源电压就可以改变其漏极电流。FET的特性可用转移特性曲线和输出特性曲线来描述。其性能可以用一系列参数来表征。 * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 一.晶体三极管的结构 NPN型 PNP型 符号: 三极管的结构特点: (1)发射区的掺杂浓度>>集电区掺杂浓度。 (2)基区要制造得很薄且浓度很低。 - - N N P 发射区 集电区 基区 发射结 集电结 e c b 发射极 集电极 基极 - - P P N 发射区 集电区 基区 发射结 集电结 e c b 发射极 集电极 基极 * * (3)因为集电结反偏,收集扩散到集电区边缘的电子,形成电流IC 。 另外,集电结区的少子形成漂移电流ICBO。 (1)因为发射结正偏,所以发射区向基区注入电子 ,形成了扩散电流IEN 。同时从基区向发射区也有空穴的扩散运动,形成的电流为IEP。但其数量小,可忽略。 所以发射极电流I E ≈ I EN 。 (2)发射区的电子注入基区后,变成了少数载流子。少部分遇到的空穴复合掉,形成IBN。所以基极电流I B ≈ I BN 。大部分到达了集电区的边缘。 二. BJT的内部工作原理(NPN管) * * 2.电流分配关系 三个电极上的电流关系: IE =IC+IB (1)IC与I E之间的关系: 其值的大小约为0.9~0.99。 (2)IC与I B之间的关系: 令: 得: * * 三. BJT的特性曲线(共发射极接法) (1) 输入特性曲线 iB=f(uBE)? uCE=const (1)uCE=0V时,相当于两个PN结并联。 (3)uCE ≥1V再增加时,曲线右移很不明显。 (2)当uCE=1V时, 集电结已进入反偏状态,开始收集电子,所以基区复合减少, 在同一uBE 电压下,iB 减小。特性曲线将向右稍微移动一些。 * * (2)输出特性曲线 iC=f(uCE)? iB=const 现以iB=60uA一条加以说明。 (1)当uCE=

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