碳化硼陶瓷范例.ppt

汇报人：王东、冀学洋 碳化硼陶瓷制备技术的研究进展 目 录 Contents 一 二 四 三 五 一、碳化硼简介 3 1.1 碳化硼到底是什么？ 碳硼化合物粉末最初是在1858年作为制备金属硼化物的副产品被发现的，1883年Joly鉴定了B3C粉末；1894年Moissan确定了B6C粉末;化学计量的B4C直到1934年才被确定。不久，电炉生产B4C粉末取得成功。碳化硼为菱面体，品格属于D3d5-R3m空间点阵，品格常数a=0.519nm c=1.212nm, a=66°18，其结构可描述为一立方原胞点阵在空间对角线方向上延伸，在每一角上形成相当规则的二十面体，目前可被广泛接受的碳化硼模型是:B11C组成的二十面体和C-B-C链构成的菱面体结构。 一、碳化硼简介 4 碳化硼是引人注意的陶瓷材料，碳化硼最突出的特点就是其具有的超常硬度(莫氏硬度9.36,显微硬度达到55GPa~67GPa)，其硬度仅次于金刚石和立方氮化硼，此外，碳化硼还具有密度小(2.52g/cm3),熔点高(2450℃)，高温强度高，化学稳定性好(常温下碳化硼一般不与化学试剂反应，仅在氢氟酸一硫酸、氢氟酸一硝酸混合物中有缓慢的侵蚀，是化学性质最稳定的化合物之一)，良好的中子吸收能力，极好的热电性能(140s·m-1，室温)，较低的膨胀系数(5.0x10-6K-1)等特点，因此，碳化硼可以用于制备防弹装甲、切割刀具、特种耐酸碱侵蚀材料、热电偶以及原子反应堆控制和屏蔽材料等。此外，由于其具有的良好性能，也有研究人员开始了碳化硼涂层的研究。 二、碳化硼粉末的制备 碳化硼粉末 的制备 共还原法 激光诱导化学气相沉积法 自蔓延高温合成法(SHS) 硼酐干碳热还原法 硼碳元素直接合成法 6 2.1 硼碳元素直接合成法 根据B-C相图，将纯硼粉和石焦油(或其他碳粉)按化学计量比B/C约为4:1配制，均匀混合，在真空或保护气氛下加热至1700 ℃ ~ 2100 ℃混合物发生反应生成B4C。其反应方程式为: 4B+C → B4C 本方法可以严格控制B/C，但生产效率低下，不适合工业化生产。 二、碳化硼粉末的制备 二、碳化硼粉末的制备 7 2.2 硼酐干碳热还原法 工业上一般采用碳还原硼酸(或硼酐)的方法制备B4C。将硼酐或硼酸碳混合均匀，在电弧炉中加热至1700℃~2300℃合成，反应的方程式为: 2H3BO3 → B2O3+3H2O 2B2O3+7C → B4C+6CO 由于硼酸和硼酐分别在低温和高温下有较大的挥发性，所以需要加入过量的硼酸和硼酐，才能获得高纯和稳定的碳化硼粉。 采用电弧熔炼法产量大，由于电弧炉内温度分布不均匀，因而得到的碳化硼粉末成分波动较大，电弧炉中制得的碳化硼一般含有较高的硼和碳。 反应也可以在电阻炉中进行，电阻炉温度均匀，控温准确，可以制得接近化学计量比的B4C粉末。 二、碳化硼粉末的制备 8 2.3 自蔓延高温合成法(SHS) 自蔓延高温合成法是利用化合物合成时自身产生的反应热，使反应持续进行下去的一种工艺。由于采用此法制各碳化硼时以镁作为助熔剂，因而得名“镁热法”。将碳粉、B2O3和镁粉混合均匀，在1000℃~1200℃按下式进行反应: 2B2O3+6Mg+C → B4C+6MgO 此反应为强烈放热反应，最终产物用硫酸或盐酸酸洗，然后用热水洗涤，可获得纯度较高且粒度较细(0.1μm一5μm)的B4C粉末。 二、碳化硼粉末的制备 9 2.4 激光诱导化学气相沉积法(LICVD) 以含有碳源及硼源的气体(BCl3, B2H6, CHCl3,CH4等)为原料，在激光辐照的条件下，混合气体之间发生反应生成B4C纳米颗粒，经过一定的处理后可以得到具有较高纯度的碳化硼纳米粉。 论文报道以铷钇铝石榴石激光作为激光源，C6H6和BCl3为反应气体，制备出了石墨包覆B4C的纳米粉末，B4C粒度为14nm~33nm。 二、碳化硼粉末的制备 10 2.5 共还原法 这是一种比较新的制各B4C的方法，它是将过量的金属钠与一定量的BBr3和CCI4;装入铁制试管内，置于反应釜中，在450℃保温8h后冷却至室温。将产物先后用无水乙醇、稀盐酸、蒸馏水洗涤并干燥。产物为斜方六面体型B4C粉末，其平均粒径为 80 μm,或者为直径约 200 nm、长约 2.5 μm的棒状微粒。反应式如下: C