高四化学一轮复习学案——无机化工流程题的突破策略讲解.docVIP

高四化学一轮复习学案——无机化工流程题的突破策略 化学工艺流程题是将化工生产中的生产流程用框图形式表示出来，并根据生产流程中有关的化学知识步步设问，是无机框图的创新。它以现代工业生产为基础，与化工生产成本、产品提纯、环境保护等相融合，考查物质的制备、检验、分离提纯等基本实验原理在化工生产中的实际应用，要求考生依据流程图分析原理，紧扣信息，抓住关键、准确答题。这类试题具有较强的实用性和综合性，是近几年高考化学命题的常考题型。 题型一　物质制备类化工流程题 (2014·安徽高考)LiPF6是锂离子电池中广泛应用的电解质。某工厂用LiF、PCl5为原料，低温反应制备LiPF6，其流程如下： 已知：HCl的沸点是－85.0 ℃，HF的沸点是19.5 ℃。 (1)第①步反应中无水HF的作用是____________________、________________________。反应设备不能用玻璃材质的原因是_______________________________________(用化学方程式表示)。无水HF有腐蚀性和毒性，工厂安全手册提示：如果不小心将HF沾到皮肤上，可立即用2%的________溶液冲洗。 (2)该流程需在无水条件下进行，第③步反应中PF5极易水解，其产物为两种酸，写出PF5水解的化学方程式：________________________________________________________。 (3)第④步分离采用的方法是________；第⑤步分离尾气中HF、HCl采用的方法是________________________________________________________________________。 (4)LiPF6产品中通常混有少量LiF。取样品w g，测得Li的物质的量为n mol，则该样品中LiPF6的物质的量为________mol(用含w、n的代数式表示)。 解析：(1)由流程图中的变化过程可判断，无水HF在第①步反应中既作溶剂，又作反应物。HF腐蚀玻璃，反应为4HF＋SiO2===SiF4↑＋2H2O。因为氢氟酸显酸性，HF沾到皮肤上可用显弱碱性的NaHCO3溶液冲洗。(2)根据水解反应规律，PF5水解的产物应是HF和H3PO4，化学方程式为PF5＋4H2O===5HF＋H3PO4。(3)第④步为固液分离，应采用的方法是过滤。第⑤步应根据HCl和HF的沸点差异，采用冷凝的方法分离。(4)设w g样品中含有x mol LiPF6，y mol LiF，则x＋y＝n,152x＋26y＝w，解得：x＝(w－26n)/126。 答案：(1)反应物　溶剂　SiO2＋4HF===SiF4↑＋2H2O　NaHCO3 (2)PF5＋4H2O===H3PO4＋5HF (3)过滤　冷凝 (4) (本题部分小题属于开放试题，答案合理即可) 1．明确制备类化工生产流程的特点 一个完整的物质制备化工生产流程一般具有下列特点 ―→―→―→―→ 2．熟悉常用的操作方法及其作用 (1)对原料进行预处理的常用方法及其作用： 方法 作用 研磨 减小固体的颗粒度，增大固体与液体或气体间的接触面积，加快反应速率。 水浸 与水接触反应或溶解。 酸浸 与酸接触反应或溶解，使可溶性金属离子进入溶液，不溶物通过过滤除去。 灼烧 除去可燃性杂质或使原料初步转化，如从海带中提取碘时的灼烧就是为了除去可燃性杂质。 煅烧 改变结构，使一些物质能溶解。并使一些杂质在高温下氧化、分解，如煅烧高岭土。 (2)常用的控制反应条件的方法： ①调节溶液的pH。 a．控制溶液的酸碱性使其中某些金属离子形成氢氧化物沉淀。 例如：已知下列物质开始沉淀和沉淀完全时的pH如下表所示 物质 开始沉淀 沉淀完全 Fe(OH)3 2.7 3.7 Fe(OH)2 7.6 9.6 Mn(OH)2 8.3 9.8 若要除去Mn2＋溶液中含有的Fe2＋，应先用氧化剂把Fe2＋氧化为Fe3＋，再调溶液的pH到3.7。 b．调节pH所需的物质一般应满足两点要求：能与H＋反应，使溶液pH增大；不引入新杂质。 例如：若要除去Cu2＋溶液中混有的Fe3＋，可加入CuO、Cu(OH)2、Cu2(OH)2CO3等物质来调节溶液的pH。 ②控制温度。根据需要升温或降温，改变反应速率或使平衡向需要的方向移动。 ③趁热过滤。防止某物质降温时会析出。 ④冰水洗涤。洗去晶体表面的杂质离子，并减少晶体在洗涤过程中的溶解损耗。 3．识别流程图 化工流程中箭头指出的是投料(反应物)，箭头指向的是生成物(包括主产物和副产物)返回的箭头一般是被“循环利用”的物质。 1．工业上用某矿渣(含有Cu2O、Al2O3，Fe2O3、SiO2)