2014届高考化学二轮专题复习汇编试卷：L单元 烃的衍生物（2013高考真题+模拟新题）.docVIP

L单元烃的衍生物L1　卤代烃32.K2 L4 K1 L2 L1 M3　[2013·福建卷] [化学——有机化学基础]已知：RCHO 为合成某种液晶材料的中间体M，有人提出如下不同的合成途径：3CHOCH2CH2CH3CH2OHCH2CH2CH3CH2OH 　A　　　　　　　　M　　　　　　　　B(　　　)　 C　　　　　　　　　D(1)常温下，下列物质能与A发生反应的有________(填序号)。苯　　　　　b．Br乙酸乙酯 d．KMnO＋溶液(2)M中官能团的名称是________，由C―→B的反应类型为________。(3)由A催化加氢生成M的过程中，可能有中间生成物和________________________________________________________________________(写结构简式)生成。(4)检验B中是否含有C可选用的试剂是________(任写一种名称)。(5)物质B也可由Cl与NaOH水溶液共热生成，C的结构简式为________。(6)C的一种同分异构体E具有如下特点：分子中含苯环上只有两种化学环境不同的氢原子写出E在一定条件下发生加聚反应的化学方程式________________________________________________________________________ ________________________________________________________________________。[答案] (1)b、d(2)羟基　还原反应(或加成反应)(3)CH3CH2CH2CH2OH (4)银氨溶液(或新制氢氧化铜悬浊液)(5)CH3CH2CH2CH2Cl (6)nCH＝CHOCH2CH3CHCH2 [解析] (1)由A的结构简式可知其官能团是碳碳双键、醛基， 碳碳双键与Br能发生加成反应，碳碳双键和—CHO都能被酸性高锰酸钾溶液氧化，故bd项均正确；(2)由M的结构简式可知其所含官能团是羟基；由反应条件判断D→C是烃基苯变为对烃基苯甲醛，D是丙苯，则C是对丙基苯甲醛；比较C、B结构简式的异同，发现只有醛基变为羟甲基，C→B是得到氢的过程，因此该反应是还原反应或加成反应；(3)A所含的碳碳双键、醛基在一定条件下都能与H加成，若氢气过量，则A直接转化为M，若氢气不足，可能只有碳碳双键与H加成得到中间生成物，也有可能只有醛基与H反应变为羟甲基，得到中间产物；(4)B的官能团是羟基，C的官能团是醛基，不能选择酸性高锰酸钾溶液检验B中是否含有C，因为羟基和醛基都能使酸性高锰酸钾溶液褪色，只能选择银氨溶液(或新制氢氧化铜悬浊液)检验B中是否含有C；(5)C属于卤代烃， B的分子式为C，B比C多1个O、1个H，少1个Cl，由卤代烃的性质可得，C与NaOH水溶液共热得到的有机产物为B，由此逆推可得C的结构简式为；(6)由C的结构简式可得其分子式为C，减去—OCH后得到苯环上另一个取代基为—CH===CH；苯环上只有两种氢，说明两个取代基位于相对位置，由此可得C的同分异构体E的结构简式；E的官　[2013·广东卷] 脱水偶联反应是一种新型的直接烷基化反应，例如：反应①：＋　　　Ⅰ　　　　　　　　　　　ⅡCHCHCHCH3CHCOOCH2CH3CH3CO (1)化合物Ⅰ的分子式为________，1 mol该物质完全燃烧最少需要消耗________mol O。(2)化合物Ⅱ可使________溶液(限写一种)褪色；化合物Ⅲ(分子式为C10)可与NaOH水溶液共热生成化合物Ⅱ，相应的化学方程式为________________________________________________________________________。(3)化合物Ⅲ与NaOH乙醇1∶1∶1∶2，Ⅳ的结构简式为___________。(4)由CH可合成化合物Ⅰ。化合物Ⅴ是CH的一种无支链同分异构体，碳链两端呈对称结构，且在Cu催化下与过量O反应生成能发生银镜反应的化合物Ⅵ。 Ⅴ的结构简式为________，Ⅵ的结构简式为________。(5)一定条件下，与也可以发生类似反应①的反应，有机产物的结构简式为________。[答案] (1)C　7(2)酸性KMnO溶液(或溴水)　＋ NaOH CHCHCHCH3＋NaCl(3)CHCHCHCH2 (4)HOCH2—CH===CH—CH2OH HCOCHCHCOH (5)CHCCBr [解析] (1)反应①中化合物Ⅰ的分子式为C6；根据烃的含氧衍生物燃烧通式可得：C＋7O6CO2＋5H，则1 mol Ⅰ完全燃烧最少需要消耗7 mol O；(2)反应①中化合物Ⅱ的官能团是碳碳双键、羟基，碳碳双键能与溴发生加成反应，