磁控溅射技术在织物整理中的应用讲述.ppt

涤纶春亚纺，镀覆Ti 镀金属层厚度测试 采用PET薄膜覆盖在织物上方法，台阶仪测试法 镀Cu织物防紫外线性能测试 测试标准ASTM D 6603测试标准 涤纶镀Cu织物接触角 涤纶原布瞬间捕捉图像，5s之内完全铺展 涤纶镀Cu瞬间图像，20s之后仍保持原样 Thank you for your attentions! 纳米涂层剂在金属镀层纺织品抗紫外隔热降温整理中的应用 * * 在介绍磁控溅射镀膜前，先了解一下纳米薄膜的主要制备方法。纳米薄膜的制备方法主要有液相法和气相法。 液相法是将可溶性金属盐溶液通过水解、电解、升华工艺，或者往溶液中添加沉淀剂，使金属离子沉淀或结晶形成薄膜。液相法工艺简单，制备薄膜温度比较低，但制备薄膜过程中会用到有机溶剂，有环境污染问题。 液相法包括溶胶-凝胶法和电化学沉积法。 溶胶-凝胶法：采用易水解的无机盐或金属醇盐做前驱体，加入少量的介质和催化剂，前驱体水解后形成溶胶，将需要处理的基体浸入到溶胶中，溶胶吸附在基体上，经干燥和热处理，形成纳米薄膜。 电化学沉积法：是将电解液中的金属离子在外加电压下还原，并沉积在阴极上，电流或电压改变到合适值时，会产生电流或电位阶跃，再经过加微小交流信号，制备纳米薄膜。制膜过程中产生废液，污染环境。 气相法是直接用气体或利用各种方法把物质变为气体，通过气体发生物理或化学反应后，经冷却凝聚成膜。特点是纯度高、颗粒小、颗粒团聚少、组分易控制。 气相法包括化学气相沉积法和溅射法。 化学气相沉积法：气体在气相中产生化学反应后，产生基本粒子，基本粒子再经成核和生长过程，最终形成晶体薄膜。是集成电路工艺中常用的制备薄膜的方法。 溅射法：是在高真空中，惰性气体在高频高压电场中发生电离，在正极和负极之间出现辉光放电现象，产生具有高能量的离子流，在电场作用下，粒子流轰击靶材电极，靶材原子被溅射出来沉积在基底材料上，形成薄膜。 溅射法是沉积纳米薄膜最常用的方法。 * 磁控溅射镀膜是20世纪70年代发展起来的一种镀膜技术，磁控溅射设备由操作控制系统（控制磁控溅射工艺参数）、真空反应室和气瓶组成，靶材和基材放在真空反应室中，在电场和磁场的作用下产生高能粒子流轰击靶材，溅射出靶材原子沉积在基材上形成薄膜。 目前，磁控溅射技术在纺织材料表面镀膜改性方面的研究与应用越来越多。利用这项技术在织物表面镀上不同组成的薄膜，可织物具有抗菌、电磁屏蔽、防紫外、防水透湿等功能，可以用它来开发多功能纺织品。 * 直流溅射：是利用直流辉光放电，直流磁控溅射只能用导电材料做靶材，靶材容易造成电荷积累中毒，靶材利用率低； 射频溅射是利用射频放电，靶材可以用是导电材料、半导体或绝缘体，可以消除直流溅射所产生的电荷屏蔽，靶材不会中毒。 中频溅射电源是中频交流电，这种溅射方法溅射速率快，是直流溅射沉积速率的2-3倍，沉积的薄膜光滑均匀致密，但对工艺参数控制的精准度高，设备要求高，设备成本高。 * 矩形靶：靶材的形状是长方体；宽度800mm×高度200mm×长度（客户自选厚度）。 平面靶：一般是圆形靶，溅射面是圆形面。 圆形靶材：Ф460mm×长度（客户自选厚度）（为国际同类产品最大尺寸） 孪生靶：有两个靶材，在两个靶上施加双向交变电压。 靶的长度根据加工基材的宽度要求而定制。 * 把磁控溅射靶材和基材都放在一个真空室内，靶材用被沉积的材料做成，也就需要制成薄膜的材料，基材是要在上面镀金属的材料，比如需要镀膜的织物，靶材做阴极，基材做阳极，在阴极和阳极之间加电压，形成静电场E，由基材指向靶材。真空室抽真空后，充入氩气，氩气在静电场的作用下电离产生高能量的氩离子Ar+和电子e。溅射出来的电子e飞向阳极，在飞向阳极的过程中与氩原子碰撞也产生氩离子和二次电子e1。高能量的氩离子在电场E的作用下，以一定的加速度飞向阴极靶材，并且以高能量状态轰击靶表面，使靶材表面发生溅射，溅射出的中性靶原子（或分子）沉积在基材上形成薄膜。 * 在靶材的附近，在与电场方向垂直的方向加一磁场B（水平方向），在磁场作用下，阴极靶材周围出现辉光等离子区，在等离子区电离出大量氩离子和二次电子，氩离子轰击靶材溅射出靶原子，二次电子在加速飞向阳极的过程中同时受到电场和磁场的作用，在电场作用下，往阳极基材方向运动，在磁场B洛仑磁力的作用下，二次电子以螺旋线形式在靶材表面作圆周运动，两者共同作用的结果是二次电子e1绕靶材往基材方向做螺旋形运动。这样就延长了二次电子的运动路径，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终以低能量状态沉积在基材上，所以基材在溅射过程中升温很小，基材的性质不会受到影响，适合纺织材料表面的