离子束技术对氧化铪薄膜性能的影响.pdfVIP

第23卷第6期 2011年6月 强 激 光 与 粒 子 束 HIGH POWER LASER AND PARTlCLE BEAMS V01．23，No．6 Jun．，2011 文章编号： 1001—4322(2011)06一1548一05 离子束技术对氧化铪薄膜性能的影响’ 刘 丰1’2， 张伟丽1， 晋云霞1 (1．中国科学院上海光学精密机械研究所。中国科学院强激光材料科学与技术重点实验室．上海201800； 2．中国科学院研究生部，北京100039) 摘要： 在基底清洗、薄膜沉积和薄膜后处理三个阶段均采用离子束技术，制备了氧化铪薄膜，并对薄膜 的光学性能、表面特性和激光损伤阈值特性进行测试和研究。结果表明，利用离子束技术清洗基底可以增强表 面吸附；离子束辅助沉积在合适离子束能量下可以得到高堆积密度、高损伤阈值的薄膜；离子束后处理氧化铪 薄膜可以降低表面租糙度，改善抗激光损伤阈值。说明在三个薄膜制备阶段同时采用合适的离子束参数可以 制备出结构致密、阈值高、表面粗糙度好的氧化铪薄膜。 关键词： 离子束技术；氧化铪薄膜； 激光损伤阈值；光学性能；后处理 中图分类号： 0436 文献标志码： A doi：10．3788／HPLP1548 当前，镀膜光学元件已广泛应用于各种光学系统中，但由于薄膜材料的限制，往往成为系统中最为脆弱的 一环，尤其是在高功率激光器中，镀膜光学元件的性能在很大程度上影响着激光系统的稳定性。氧化铪 (HfO：)作为一种常见的光学薄膜材料，具有高熔点，良好的热稳定性和化学稳定性等特点[1]；同时，Hfoz具有 高折射率，从紫外(UV)到红外(IR)均透明的特点[2]。因此，Hfo：常被用来作为高折射率膜层材料制备各种 光学薄膜。 离子束技术在现代薄膜制备技术中被广泛采用[3]，在光学薄膜制备中的作用有离子束清洗、离子束辅助沉 积[4]、离子束溅射、离子后处理等。D．0chs和J．Schroeder研究了Ar，0。及Ar／0：混合气体对玻璃基底表面 的抛光作用，在350 eV条件下进行离子束清洗，可以有效去除表面吸附物[5]。M．Alvisi研究发现随着沉积速 率增大，薄膜结晶晶粒尺寸减小；折射率随离子辅助能量增加而增大[6]。但是这些制备方法虽然改善了薄膜性 能，但是还有很多问题没有解决。如提高薄膜致密度的同时，缺陷较多，阈值低；提高薄膜阈值，但薄膜表面粗 糙度太差等。 前文所述的利用离子束所作的实验，都只是对氧化铪薄膜制备的某个过程进行研究或者论述。我们是对 离子束技术在氧化铪薄膜制备的全部过程进行研究，在离子束清洗、离子柬辅助沉积薄膜和离子束后处理过程 都进行离子束参数和薄膜性能关系的研究，期望可以优化制备氧化铪薄膜的离子束工艺，改善氧化铪薄膜的各 种性能。 l镀膜实验和薄膜性能测试 实验所用设备为ZZSX一1100镀膜机，机器配置End—Hall离子源。End—Hall离子源利用阴极发射电子束， 特点为能量低、束流密度高、均匀性好，产生的离子在运动方向、能量范围和束流密度等方面都有很好的可控 性。实验采用K9基片，共制备5个样品，其中1个样品采用手工擦拭基底，另外4个样品采用离子束清洗基 底。清洗条件为：阳极电压250 V，电流4 A，氧气流量15 mL／min，时间为10 min。5个样品的制备采用不同 参数的离子束辅助沉积，所制备薄膜厚度为4H(H为光学厚度)，控制波长为600 nm，真空室本底真空4× 101 Pa，具体实验条件见表1。然后再利用阳极电压130 V，阳极电流2 A，氧气流量15 mL／min的离子束对 薄膜进行后处理。本实验真空室不加烘烤，在室温下进行氧化铪薄膜制备。 利用Perkin Elmer生产的lamda900分光光度计测量样品的透射光谱曲线，测量范围为300～1 200 nm。 利用原子力显微镜(Dimentions 3 100／veeco)测量样品的表面形貌和粗糙度，测量范围为5弘m×5弘m。 ·收提日期：20lO一10一25； 修订日期：2011-04—18 基金项目：国家高技术发展计划项目 作者简介：刘丰(1985一)．男，磺士。主要从事氯化铪薄膜方面的研究；lfe吣iu@mail．∞tL edll．∞． 万方数据 第6期 刘 丰等：离子束技术对氧化铪薄膜性能的影响 裹l 曩化精簿奠沉积工艺●撤 T■Me l mp帽It如n呻朋mele—ror Hfol恤InⅢ珊 利用日本理学的D／ma X-7A型x射线衍射仪(xRD)进行薄膜的晶相分析，所用靶材为cu靶，扫描波 长154 nm，扫描角度从10。～90。，扫描步长o．02。 激光损伤阈值(LIDT)采取1一on-1测量方式，测量装置由Nd：YAG激光器、He-Ne准直光源、分光镜、聚 焦凸透镜、2