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第 # 卷 第 $ 期 强 激 光 与 粒 子 束 %’( #，)( $ *++, 年 $ 月 -./- 01234 56734 6)8 0649.:53 ;367 =( ，*++, 文章编号： ++ @$**（*++,）+$ +A+$ +@ 电子束重复增量扫描曝光技术 ! 孔祥东，*， 冯圣玉， 卢文娟$， 张玉林$ （! 山东大学 化学与化工学院，济南 *A+++； *! 东营职业学院 科研处，山东 东营 *A,+#； $! 山东大学 控制学院 电子束研究所，济南 *A++B） 摘 要： 提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念，对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、 溶解速度与吸收能量密度之间的关系进行了理论分析，发现溶解速度随曝光剂量增加而增大。以此为依据，在 787 $ 型电子束曝光机上采用 *+ CD% 能量的电子束对 A,+ EF 厚的聚甲基丙烯酸甲酯进行了 , 次重复增量扫 描曝光实验，得到了轮廓清晰的梯锥和圆锥 $ 维结构，证明了电子束重复增量扫描曝光技术的可行性，为电子 束加工 $ 维结构提供了新工艺。 关键词： 电子束曝光； 吸收能量密度； 剂量； 溶解速度； 抗蚀剂 中图分类号： 9)$+A( , 文献标识码： 6 电子束曝光技术是目前公认的最好的高分辨率图形制作技术。传统的电子束曝光技术主要用于集成电路 * 维精密掩膜的制作，要进行微 $ 维结构的加工，一般是通过频繁改变电子束扫描频率以调节曝光剂量来实 现［ $］。但在通用的电子束曝光系统中，因扫描频率分档的不连续而限制了曝光级别，在曝光曲面图形时限制 了图形的曲面平滑度。为了克服上述限制，本文提出了一种保持束流和扫描频率不变，通过改变电子束扫描次 数来改变曝光剂量的 $ 维微结构加工方法———电子束重复增量扫描曝光技术，并在对其可行性进行理论分析 的基础上，以聚甲基丙烯酸甲酯为抗蚀剂进行了曝光实验，证明了该方法的可行性。 GHI( 7CDJKL F=M N OD’=MMDP HEKDFDEJ QK=EEHEI 图 重复增量扫描示意图 电子束重复增量扫描曝光技术 电子束重复增量扫描曝光技术，是指在电子束曝光过程中， 保持束流和扫描频率（或光刻速度）恒定不变，各曝光点处的曝 光总剂量是由各点处的重复曝光次数（即扫描次数）决定的，扫 描次数不同将会获得不同的曝光总剂量，显影后将得到不同的 曝光深度，进而可以得到不同形状的微 $ 维结构。图 为重复 增量扫描方式示意图，! 为内外层图形的间距。 $ 实现方法的可行性分析 $( 吸收能量密度与深度、剂量之间的关系研究 电子束曝光实质上就是高能电子与抗蚀剂分子发生相互作用使抗蚀剂分子发生聚合或裂解的过程，其变 化程度取决于抗蚀剂的吸收能量密度 ! （ ! R P S P#，抗蚀剂深度 $ 处单位体积内所吸收的能量）。文献［@］表 明： ! 与曝光剂量 % 成正比关系，即 ! %。但 ! 与穿透深度之间的关系很少提及，而二者的关系对于电子束曝 光来说是非常重要的。为了研究这个关系，本文采用 EJD :=’ 方法对电子束曝光过程进行了模拟。 图 * 为模拟电子束曝光聚甲基丙烯酸甲酯（06）后得到的吸收能量密度 ! 与穿透深度之间的关系。模 拟条件为：电子束加速电压 *+ C%，模拟电子 + +++ 个，抗蚀剂层厚 A++ EF。模拟结果显示：随着深度的不断 增加，能量密度逐渐减小，等能量密度线 的密度值大于等能量密度线 * 的密度值，等能量密度线 * 的密度值 大于等能量密度线 $ 的密度值，依此类推。其它模拟条件下得到的模拟结果遵循同样的变化规律。因此，可以 得出：抗蚀剂的吸收能量密度与曝光剂量成正比，沿深度方向，吸收能量密度逐渐减小。 ! 收稿日期：*++B??*,； 修订日期：*++,?+?*B 基金项目：国家自然科学基金重大研究计划资助课题（#+$+,++$）；国家自然科学基金资助课题（+A,*+,T）；山东省自然科学基金资助课题 （U*++$/+$） 作者简介：孔祥东（#BB—），男，博士后，副教授，主要从事电子束 $ 维曝光技术的研究；Q’CVPW QPX( DPX( KE。 !#$ % ’()*(+, (- .).,#/ 01123*() ) ,.11* 图 % 抗蚀剂中的能量沉积轮廓 !$ ! 聚合物溶解速度与吸收能量密度之间的关系研究 以正性抗蚀剂的辐射裂解为例，设在电子束对其曝 光的过程中，! 1 表示每吸收 455 .6 的辐射能所产生的 主分子链分裂数目，降解度 表示吸收某一剂量后每个 主链单位单元发生降解的几率， 7 5 #，其中 # 7 0$ 8 0% （单位质量介质吸收的辐射能）， 5 是单位剂量（459:/） 的降解度；! ; 表示每吸收 455 .6 的辐射能所