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PLZT透明铁电陶瓷
一、关于PLZT透明铁电陶瓷
二、PLZT透明铁电陶瓷的发展和主要应用
三、我所研究水平和取得的成果
四、PLZT透明铁电陶瓷的未来
报告内容
一、关于锆钛酸铅镧(PLZT)透明铁电陶瓷
[Pb1-xLax(Zr1-yTiy)1-x/4O3 (abbreviated as PLZT(x/1-y/y))]
锆钛酸铅镧
具有一般铁电陶瓷所具有
的铁电、介电、压电特性,
同时又具有一般铁电陶瓷
所不具有的高的光学透过
率和多种电控光学效应,
包括电控双折射效应、电
控光散射效应。
在500nm—6000nm波长范围内的光学透过率
可达97-98%(不考虑反射损失)
光学透
过特性
400 600 800 1000 1200
0
20
40
60
80
100
T
ra
n
s
m
it
ta
n
c
e
(
%
)
Wavelength (nm)
9.0/65/35 1053nm 98.67%
9.5/65/35 1053nm 99.51%
10.0/65/35 1053nm 99.50%
PLZT(x/65/35)透明陶瓷及光学透过率
(镀增透膜:?:1053 nm)样品厚度:0.4mm?0.05mm
给各向异性的电介质施加外电场E后,由于压电效应使晶
格产生畸变,介质的折射率n也随之变化,这种由于外电
场引起的晶体折射率的变化现象称为电控双折射效应。
n与E的关系:n=no+aE+bE
2 +? ?
? 电介质的折射率随外电场成线性变化的(由一次项
aE引起)称为一次电光效应;
? 折射率与电场成平方关系的(由bE2项引起)称为二
次电光效应。
PLZT透明铁电陶瓷的电控双折射效应
PLZT材料的室温相图 不同组成PLZT陶瓷的电滞
回线和电控双折射特性
四方相结构
线性电光效应
四方或菱方相结构
记忆效应
假立方相结构
二次电光效应
A
B
C
PLZT透明铁电陶瓷的电控双折射效应
C
A
PLZT透明陶瓷的电控双折射光调制示意图
电控双折射效应应用原理
PLZT透明铁电陶瓷的电控光散射效应
电畴有序排列;
随外电场转向
而转向。
电畴随
机无序
PLZT铁电透明陶瓷中电畴的形态 (a)未极化 (b)已极化
关键区域:不同方向电畴之间的过渡区域?畴壁—光学折
射率不连续的区域?当光入射到这里时,将发生折返;光
被散射,畴壁成为无数的散射中心,使原本透明陶瓷呈现
磨砂玻璃的性状?入射光被衰减、屏蔽
? 极化了的粗晶粒陶瓷片(晶粒大于3-4?m),粗晶粒内
电畴发展形成许多散射中心,散射光的强度随着电场强
度的变化而变化——电控光散射效应。代表:
PLZT(7/65/35),对比度:100:1
? 利用电场诱导的PLZT铁电-反铁电相转变,使材料在电
场作用下由没有光散射的状态(反铁电)转变到光散射
状态(铁电相)。代表: PLZT(7.6/70/30),对比度:
20:1
PLZT透明铁电陶瓷的电控光散射效应
PLZT透明陶瓷的电控光散射效应
利用电控光散射的光阀示意图
最大透过率与
最小透过率之
比:100:1
除了电控双折射以及电控光散射效应之外,
不同组成的PLZT材料还具有电致伸缩效应、
光致伏特效应、光致伸缩效应等,可根据不
同的效应实现材料的应用。
PLZT透明铁电陶瓷的其它效应
PLZT透明
陶瓷起源
1971年Haertling和Land用La置换Pb(Ti,Zr)O3中一部
分Pb,首次获得PLZT透明陶瓷。
PLZT透明陶瓷的发展
? 前期工作以PLZT陶瓷制备技术和组成结构,物理性能以及物理本
质(畴结构)为主要研究内容,揭示钙钛矿型铁电材料的许多物
理本质,如极化机制,相变机理等;
? 二十世纪末光通讯技术的迅猛发展,引起PLZT透明铁电陶瓷新
的研究热潮。集中于材料在光开关、光调制器上的应用研究。国
外研制出基于透明铁电陶瓷的光开关和可变光衰减器。
二、PLZT透明铁电陶瓷的发展和主要应用
强闪光
激光 光开关
光衰减器
光
屏
蔽
光
调
制
PLZT透明
铁电陶瓷
光调制器
光隔离器
光衰减器
等等
电光
效应
PLZT透明陶瓷的主要应用
光开关 优点 不足
机械模式光开关
消光比大、温度稳定性好、无迟
滞、偏振无关、成本低
体积大、开关速度慢
(毫秒)
电
光
型
光
开
关
液晶
消光比大(5 db)、加工性好、成
本低
体积大、开关速度慢、
热稳定性差
单晶
(LiNbO3)
体积小、开
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