脉冲高能量密度等离子体法制备！#薄膜及其摩擦磨损性.PDFVIP

脉冲高能量密度等离子体法制备 !# 薄膜 及其摩擦磨损性能研究! 刘元富! 张谷令 王久丽 刘赤子 杨思泽 （中国科学院物理研究所，北京 ###$# ） （ %## 年 ’ 月 日收到； %## 年 ’ 月 % 日收到修改稿） 利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在 (’ 号钢基材上制备出了超硬耐磨 )*+ 薄膜 , 利用 -./ ， -01 ， 231 ， 134 等手段分析了薄膜的成分及显微组织结构，并测试了薄膜的硬度分布及摩擦磨损性能 , 结果表明：薄 膜主要组成相为 )*+ ，薄膜组织致密、均匀，与基材之间存在较宽的混合界面；薄膜硬度高，在干滑动磨损实验条件 下具有优异的耐磨性及较低的摩擦系数 , 关键词：脉冲高能量密度等离子体， )*+ 膜，显微组织，耐磨性 $% ： ’%5’. ， (%5$6 ， 7($#8 ， (7#0 !国家“ $7 ”计划（批准号： %##%2#%# ）和国家自然科学基金（批准号： #%5’#$$ ）资助的课题 , ! 39:*; ： =:?=;*=@ :ABB, CB9, C D 引 言 )*+ 为面心立方结构，具有硬度高、耐磨性好、 摩擦系数低、耐蚀性优异、化学稳定性好等一系列性 能优点，因此， )*+ 超硬耐磨薄膜被广泛用作刀具、 冷作及热作模具的表面改性层［—’］ , 从已有文献报 道来看， )*+ 薄膜的制备手段大多数集中于物理气 相沉积（ 0E/ ）工艺 , 0E/ 工艺固然存在着工艺过程 简便、工作温度低（ $# — ’##F ）、应用范围广等优 点，但也存在着改性层与基材之间结合强度较低的 缺陷 , 脉冲高能量密度等离子体（ 063/0 ）薄膜沉积 技术是近年发展起来的较新的等离子体材料表面改 性技术，与物理气相沉积、化学气相沉积及等离子体 源离子注入等常规工艺［7，5］相比较，其技术优势主要 体现在：该技术集高速淬火（自淬火速度高达 # 5— # # GHI ）、溅射制膜和离子注入于同一过程；沉积可 在室温条件下进行，基材基本无变形；沉积速率高； 产生的新相不受平衡相图的限制（在合适的工艺参 数下可获得介稳相甚至非晶）；由于具有离子注入效 应，薄膜与基材之间具有较高的结合强度［$，J］ , 利用 脉冲高能量密度等离子体技术已成功制备出了立方 K+ ， )* （ L+ ），类金刚石膜等薄膜［#，］，脉冲高能量密 度等离子体陶瓷表面金属化的研究工作业已取得了 一些阶段性成果［%］ , 本文利用 063/0 技术在 (’ 号 钢基材表面制备出了表面光滑、组织致密、均匀的以 )*+ 为主要组成相的表面改性层，分析了薄膜的成 分及显微组织结构，测试了薄膜的纳米硬度分布，在 室温干滑动磨损试验条件下测试了薄膜的摩擦磨损 性能 , % D 实验方法 脉冲高能量密度等离子体薄膜沉积装置为本实 验室自行研制，其工作原理如文献［ ， ( ］所述 , 选 用纯度为 JJDJM 的氮气作为工作气体，同轴枪内外 电极材料均为工业纯钛 , 以获得表面光滑、组织致密 均匀的优质薄膜为依据，优化后的工艺参数为：充电 电压 ! N= O PE ，脉冲次数 Q=;IR O %# ，工作气体气库 压力 # S O #D’40: ，样品靶室内的真空度为 # T 0:, 以正火态 (’ 号钢作为基材，试样加工成 ! ’99 U 99 的圆形薄片，经丙酮超声清洗，吹干后放入真 空室 , 利用 134 （ 1 T (%## ）， -./ （ /H9:V T .K ， L= $ #D’(9 ）， -01 （ 4G # ， 4N $ ，通过能为 ’#RE ）， 231 （ 06W T 7# ）分析薄膜的成分及显微组织；利用 4) 公司产 -0 型纳米压痕仪测试薄膜的纳米硬度梯度 分布；利用 44%## 型摩擦磨损实验机在室温干滑动 磨损试验条件下测试薄膜的摩擦磨损性能，对磨偶 第 ’ 卷 第 % 期 %##( 年 % 月 ###X%J#H%##(H’ （ #% ） H#’#X#’ 物 理 学 报 2L)2 06Y1WL2 1W+WL2 EB;,’ ， +B,% ， ZRS[=:[ ， %##( $ %##( LA*, 0AI, 1BC, 件为淬火的 !#$% 钢环（ ’ ! () ），法向载荷 *+, ， 以淬火 *% - 钢作为对比样，相对滑动速度 ./+0123 ， 磨损时间 4.156 ，用 789 : %(..; 型扫描电镜测量 磨痕尺寸，由此计算出磨损体积损失 = 图 $ *% - 钢表面 ?@ 法沉积薄膜表面扫描电镜照片 4/ 实验结果及分析 *% - 钢表面 ?@ 法沉积薄膜外观呈金黄色， 表面平整、光滑，无气孔、裂纹等宏观缺陷 = 图 $ 为薄 膜的 8?9 表面形貌，可见，薄膜组织均