定量分析,适用于Rietveld精修,K-alpha1系统并兼容标准布.doc

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定量分析,适用于Rietveld精修,K-alpha1系统并兼容标准布.doc

功能要求:仪器采用当前最先进的技术,能够精确地对粉末多晶样品进行物相定性、定量分析,适用于Rietveld精修,K-alpha1系统并兼容标准布拉格光路;配置快速探测器。 技术及配置要求: 1. X射线光源 1.1. X射线发生器部分 1.1.1 最大输出功率:≥ 3kW 1.1.2 额定电压:60kV 1.1.3 额定电流:80mA 1.2 X射线光管部分 1.2.1 X射线光管:Cu靶 1.2.2焦斑大小:0.4 mm x 12 mm 1.3 电流电压稳定度:优于0.005% (外电压波动10%)时 1.4 X射线防护:安全连锁机构、剂量符合国标; 防护罩外任何一点的计量小于1?Sv/h 2. 测角仪部分 2.1 扫描方式:Theta/2-Theta,测角仪垂直放置 2.2 可读最小步长:0.0001度,角度重现性:0.0001度 2.3验收精度:标准样品现场检测,全谱范围内所有峰的角度偏差不超过±0.01度。 3. 光路系统 3.1配置聚焦模式下的Cu-k?1光路系统与常规光路系统,两种光路可互相切换 3.2采用全光路自动狭缝系统:包括自动防散射狭缝、自动发散狭缝连续可调(至少包括4度,2度,1度,1/2度,1/4度)、自动接收狭缝 4. 探测器部分: 4.1 探测器类型:二维或一维探测器,通道数 ≥ 256 4.2最大计数:≥1 x 1010 cps 4.3具有静态扫描功能,正常工作半径下最大2theta角 ≥ 3.0度 4.4提供的半导体阵列探测必须同时适合小角和广角测试, 广角测试时起始角0.5度 4.5分辨率: NIST660a样品FWHM小于 0.029度 5. 样品台: 5.1粉末样品台, 旋转透射样品台,支持反射与透射模式 6 仪器控制和数据采集系统 6.1 计算机:双核主频3G Hz以上,4G 以上内存,1T HD,CD-RW,22”宽屏液晶显示器, 100M网卡,激光彩色打印机 6.2 仪器控制和数据采集软件 7 应用软件: 7.1 物相检索软件:含原始数据直接检索功能, 包括终身使用权的ICSD数据库,内置10万以上的粉末衍射数据库和单晶数据库 7.2 结晶学分析软件:含基本的结构解析和晶胞参数测定功能 8 循环水冷系统:满足相应系统连续满功率运行 9 仪器及生产商必须满足的相关国际安全标准 9.1 质量标准:ISO9001, ISO14001认证 9.2 欧洲安全标准:CE 认证 9.3 提供辐射安全豁免证书 10 售后及服务条款 10.1 货期6个月。 10.2 到货后一周以内安装调试,用户本地培训2周,达到至少2人熟练操作,用户会免费2人次参加,仪器使用半年后,由用户决定时间进行一次高级应用培训。 10.3 售后3年质保,24小时响应,48小时上门服务。

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