精密工作台的光栅定位测量系统设计doc.doc

PAGE  PAGE 19 精密工作台的光栅定位测量系统设计 姓名 孙家欢 班级 07测控（1） 学号 目 录 1国内外现状…………………………………………3 2系统总体方案设计……………………………………..7 3测量系统设计…………………………………………..10 4测控电路………………………………………………..11 5展望和总结……………………………………………..16 6参考文献………………………………………………..17 1国内外现状 作为精密机械与精密仪器的关键技术之一———微位移技术，近年来随着微电子术、宇航、生物工程等学科的发展而迅速地发展起来。例如用金刚石车刀直接车削大型天文望远镜的抛物面反射镜时，要求加工出几何精度高于１／１０光波波长的表面，即几何形状误差小于０．０５μｍ。计算机外围设备中大容量磁鼓和磁盘的制造，为保证磁头与磁盘在工作过程中维持１μｍ内的浮动气隙，就必须严格控制磁盘或磁鼓在高速回转下的跳动。特别是到２０世纪７０年代后期，微电子技术向大规模集成电路（ＬＳＩ）和超大规模集成电路（ＶＬＳＩ）方向发展，随着集成度的提高，线条越来越微细化。２５６Ｋ动态ＲＡＭ线宽已缩小到１．２５μｍ左右，目前已小于０．１μｍ，对与之相应的工艺设备（如图形发生器、分步重复照相机、光刻机、电子束和Ｘ射线曝光机及其检测设备等）提出了更高的要求，要求这些设备的定位精度为线宽的１／３～１／５，即亚微米甚至纳米级的精度。 由于定位技术的水平几乎左右着整个设备的性能，因此直接影响到微电子技术等高精度工业的发展。例如精密仪器，无论是大行程的精密定位，还是小范围内的光学对准，都离不开微位移技术。因此微位移技术，成为现精密仪器的共同基础。 下表列举了目前国内外应用微位移技术的部分实例。 微位移系统如图包括微位移机构、检测装置和控制系统３部分。微位移机构是指行程小（一般小于毫米级）、灵敏度和精度高（亚微米、纳微米级）的机构。 微位移机构（或称微动工作台）由微位器和导轨两部分组成，根据导轨形式和驱动方式可分成五类： ①柔性支承、压电或电致伸缩微位器驱动； ②滚动导轨，压电陶瓷或电致伸缩微位移器驱动； ③滑动导轨，机械式驱动； ④平行弹性导轨，机械式或电磁、压电、电致伸缩微位移器驱动； ⑤气浮导轨，伺服电机或直线电机驱动。 在各种测量系统中，光栅测量系统优越的综合技术性能，和较低的制造费用，因此光栅发展得最快，技术性能最高，市场占有率最高，产业最大。光栅在栅式测量系统中的占有率已超过80%，光栅长度测量系统的分辨力已覆盖微米级、亚微米级和纳米级测量速度从60m／min到480m／min，测量长度从1m、3m达到30m和100m。 光栅的种类繁多，在精密仪器和精密计量中应用非常广泛，计量光栅是增量式光学编码器。计量光栅技术的基础是莫尔条纹(Moire fringes)，1874年由英国物理学家L．Rayleigh首先提出这种图案的工程价值，直到20世纪50年代人们才开始利用光栅的莫尔条纹进行精密测量。1950年德Heidenhain首创DIADUR复制工艺，也就是在玻璃基板上蒸发镀铬的光刻复制工艺，这才能制造高精度、价廉的光栅刻度尺，光栅计量仪器才能为用户所接受，进入商品市场。1953年英国Ferranti公司提出了一个4相信号系统，可以在一个莫尔条纹周期实现4倍频细分，并能鉴别移动方向，这就是4倍频鉴相技术，是光栅测量系统的基础，并一直广泛应用至今。 我国在光栅方面的研究起步较晚，于1960年前后，并在光栅和圆光栅的制造、用方面取得了许多成果。但是，我们与当今世界上主要的光栅测量装置生产厂家相比（德国的OPTION、Heidenhain公司、日本的三丰、双叶、美国的BL公司等）有一定的差距，主要表现在：制造精度比较低、批量程度差、品种比较单一 此外,目前发达国家在数控技术方面均投人大量的人力物力,研究和开发了一系列新一代的数控设备。例如，德国的SIEMENS公司、日本的FUNAC公司等等。虽然我国数年来也不断对数控技术进行发展，但是出于种种原因，直到今天我国数控领域依然处于比较落后的局面，我们必须对数控技术不断加以研究和探索，整个现代工业加工的基础领域能有较大的发展，而使得工业经济的发展。 2系统总体方案设计 单片机 放大器 直线电机 光栅位移传感器 脉冲处理 工作台 计量光栅具有以下优点： (1)测量精度高。计量光栅应用莫尔条纹原理。莫尔条纹是由许多刻线综合作用的结果，故对刻画误差有均化作用。因此利用莫尔条纹信号所测量地位置精度较线纹尺等高，可用于微米级，亚微米级的定位系统。 (2)读数速率高。莫尔条