碳化硅化学分析方法.docVIP

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碳化硅化学分析方法

PAGE 16 PAGE 8 碳化硅化学分析方法 1样品的制备 1.1结晶块试样 取具有统计代表性的结晶块,破碎至完全通过2 mm筛网,混匀,用四分法缩分至50g~60g。继续用钢玉研钵研细至全部通过355μm筛网。用吸力9.8N~14.7N的磁铁吸出粉碎中带入的铁质。然后混匀,装入试样袋,于105℃~110℃的烘箱中烘干1h,取出,放入干燥器中,冷却备用。 如果对三氧化二铁的测定有严格要求,则应按下列方法另行制样用以测定三氧化二铁:取具有统计代表性的结晶块,破碎至完全通过2mm筛网,混匀,用四分法缩分至50g~60g。再用刚玉研钵研细至全部通过500μm筛网,混匀,用四分法缩分至20g~25g。继续用刚玉研钵研细至全部通过355μm筛网,混匀,装入试样袋,置于105℃~110℃的烘箱中烘干1h,取出,放入干燥器中,冷却备用。 1.2磨料试样 对于F54(P50)及以粗的试样,取样和缩分依照GB/T4676进行,其余操作同1.1。 对于F60(P60)及以细的试样,依照GB/T 4676取样并缩分至50g~60g,装入试样袋,置于105℃~110℃的烘箱中烘干1h,取出,放入干燥器中,冷却备用。 用作测定总碳的试样需研细至全部通过150μm筛网。 第一节 游离碳的测定 一、 原理 试样在750℃±10℃(650℃±10℃)的温度下,经过灼烧,其表面的游离碳被氧化成二氧化碳损失,失去的重量来计算游离碳的含量。 二、分析步骤 1.F400(P800、W28、JIS#700)及以粗的试样的测定 称取试样1克于已灼烧至恒重的铂皿中,置于炉温为750℃±10℃的马弗炉中,灼烧30分钟,取出冷却后,称重,反复灼烧至恒重。 2.F400(P800、W28、JIS#700)以细的试样的测定 称取试样1克于已灼烧至恒重的铂皿中,置于炉温为650℃±10℃的马弗炉中,灼烧25分钟,取出冷却后,称重,反复灼烧至恒重。 三、 结果计算 游离碳的质量含量W(CF),数值以%表示,按下列公式计算: W(CF)= ………………………….(1) 式中: m1——试样加铂皿灼烧前质量的数值,单位为克(g); m2——试样加铂皿灼烧后质量的数值,单位为克(g); m3——试样质量的数值,单位为克(g); 计算结果精确到0.01。 四、 允许误差 % 允许误差按表1的规定。 表1 含量范围允许误差同一试验室不同试验室≤0.25±0.03±0.040.25~0.50±0.04±0.050.50~1.50±0.07±0.08 第二节 碳化硅的测定 一、 原理 试样经氢氟酸-硝酸-硫酸处理使游离硅及二氧化硅生成挥发性的四氟化硅逸出;F400以细的微粉只用氢氟酸处理,用盐酸浸取使表面杂质溶解,测定残留物量即为碳化硅的含量(F400以细的微粉需减去其中的游离硅的含量),或由测定的总碳及游离碳的量计算而得。 二、试剂 1.硝酸(密度1.42g/cm3)。 2.氢氟酸(不小于40%)。 3.盐酸:(1+1)、(5+95)。 4.硫酸:(1+1)。 三、 分析步骤 1.F400(P800、W28、JIS#700) 及以粗的试样的测定 称取试样约1g,精确至0.0001g,放入铂皿中,用少量水润湿,加硝酸2mL、硫酸(1+1)3滴~5滴,氢氟酸15mL,置于砂浴上蒸发至三氧化硫白烟冒尽,取下稍冷,加盐酸(1+1)15mL,于砂浴上加热10min~15min使表面杂质溶解,稍冷,用中速定量滤纸过滤,用温热的稀盐酸溶液(5+95)洗涤铂皿及残留物7次~8次,滤纸及洗液收集于250mL容量瓶中,冷却后稀释至刻度,摇匀,留作测定三氧化二铁。 将残留物及滤纸放入铂皿中,低温灰化后于750℃±10℃灼烧,冷却,称量,反复灼烧至恒重。 2.F400(P800、W28、JIS#700)以细的试样的测定 称取试样约1g,精确至0.0001g,放入铂皿中,用少量水润湿,加氢氟酸10mL,于砂浴上蒸发至干,再加氢氟酸5mL继续蒸发至干,保持30min,取下稍冷,加盐酸(1+1)15mL,于砂浴上加热10min~15min使表面杂质溶解,稍冷,用中速定量滤纸加少许滤纸浆过滤,用温热的稀盐酸溶液(5+95)洗涤铂皿及残留物7次~8次,滤纸及洗液收集于250mL容量瓶中,冷却后稀释至刻度,摇匀,留作测定三氧化二铁。 将残留物及滤纸放入铂皿中,低温灰化后于650℃±10℃灼烧,冷却,称量,反复灼烧至恒重。 四、结果计算 1.F400(P800、W28、JIS#700)及以粗的试样的计算 碳化硅的质量含量W(SiC),数值以%表示,按下列公式计算: W(SiC)= ……….…………………………(2)

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