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2017-04-25 发布于北京
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第卷第期人工晶体学报　 46 1 　　　　　　　　　　　　　　　年月　　　　　 Vol. 46　 No. 1 　 2017 1 　　　　　　　　 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS 　　　　 January,2017 添加剂对 DMH 体系电沉积金的影响杨潇薇1 ,安茂忠2 中国工程物理研究院电子工程研究所绵阳哈尔滨工业大学化工学院哈尔滨 (1. , 621999; 2. , 150001) 摘要:在以二甲基已内酰脲为配位剂的镀液体系中研究了添加剂和 5,5- ( DMH) C4 H6 O2 、C7 H4 NNaO3 S C12 H25 对金电沉积工艺和电结晶过程的影响阴极极化曲线测试中金电沉积的最佳电势区间是 SO4 Na 。 , - 0. 60 ~ - 1. 2 添加剂浓度在研究的范围内对阴极极化电势的影响较小循环伏安曲线结果表明反应界面上添加剂的吸附能 V, 。 , 够影响成核生长超电势对金还原过程表现出抑制作用电化学阻抗谱研究表明镀液中加入添加剂后电荷转移 , 。 , , 过程变得更加困难观察表明添加剂改善了镀层质量晶粒变得细致均匀分析证实两种镀液体系。 SEM , , 、。 XRD , 中获得的镀金层都沿着和晶面择优生长 Au(111) (220) 。关键词:金无氰添加剂电沉积 ; ;DMH; ; 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) O64 　　 A 　　 1000-985X 2017 01-0098-07 Effect of Additive on Electrodeposition of Gold in DMH System YANG Xiao-wei1 AN Mao-zhong2 , (1. Institute of Electronic Engineering, China Academy of Engineering Physics, Mianyang 62199