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第十章X射线光电子能谱分析选编
第十章 电子能谱;X射线光电子能谱仪;§10.1 电子能谱的基本原理;对固体样品,必须考虑晶体势场和表面势场对光电子的束缚作用,通常选取费米(Fermi)能级为 的参考点。;功函数;特征:;§10.2 紫外光电子能谱(UPS);10.2.1 谱图特征;10.2.2 振动精细结构; CO的光电子能谱及其相关能级图; O2和O2+的分子轨道示意图;自旋-轨道耦合的结果导致其能级发生分裂,形成两个具有不同能量的态,例如轨道量子数为 ,即得,
它们的能量差值:
;10.2.4 自旋-自旋耦合;§10.3 X射线光电子能谱(XPS);10.3.1 谱图特征;金属铝低结合能端的放大谱(精细结构);10.3.2 化学位移;化学位移现象起因及规律;化学位移与电负性关系;§10.5 电子能谱仪简介;10.5.1 激发源;1.X射线源;2.紫外光源;3.电子源;10.5.2 电子能量分析器;半球形电子能量分析器; 筒镜形电子能量分析器;10.5.3 检测器;10.5.4 真空系统;10.5.5 样品处理;10.5.6 谱图分析;;XPS 复杂谱图;§10.6 应用举例;XPS 是用X射线光子激发原子的内层电子发生电离,产生光电子,这些内层能级的结合能对特定的元素具有特定的值,因此通过测定电子的结合能和谱峰强度,可鉴定除H和He(因为它们没有内层能级)之外的全部元素以及元素的定量分析。;10.6.1 表面组成的分析;样品的深度分析;10.6.2 化学状态的鉴定; Ni-P合金的Ni 2p3/2 XPS谱;Ni-P合金的O 1s XPS谱; Ni-P合金中P的2p XPS谱;氧吸附对表面B和Ni的影响;10.6.3 在催化研究中的应用;MoO3/Al2O3催化剂的XPS谱;;§10.4 俄歇电子能谱(AES);10.4.1 俄歇过程和俄歇电子能量;俄歇跃迁能量的另一表达式为:;10.4.2 俄歇谱图;10.4.3 化学效应;锰和氧化锰的俄歇电子谱;2)当俄歇跃迁涉及到价电子能带时,情况就复杂了,这时俄歇电子位移和原子的化学环境就不存在简单的关系,不仅峰的位置会变化,而且峰的形状也会变化。;3)能量损失机理导致的变化将改变俄歇峰低能侧的拖尾峰。
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