真空镀膜知识培训概念.ppt

龙海市角美开发区南北一路;一、真空的定义： ; 处于真空状态下的气体稀薄程度通 常用“真空度高”和“真空度低”来表示。真 空度高表示真空度“好”的意思。真空度低 表示真空度“差”的意思。低真空（一般在 760—10托）；中真空（一般在10—10 – 3 托）；高真空（一般在10 - 3—10 -8托）； 超高真空（一般在10-8—10 -12 ）。 注:1托=133.322pa 1pa=7.5×10-3托 ; 在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄层材料，也可以利用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料。这就是真空镀膜技术。在固体表面上镀上一层薄膜，就能使该基体材料具有许多新的物理和化学性能。因此，真空镀膜技术又称表面改性技术。; ①蒸发真空镀：在真空条件下，将材料加热并蒸 发到基片上，称为真空蒸发镀。 ②溅射真空镀：利用各种材料在气相间、气相和固体基体表面间所产生的物理、化学过程而沉积薄膜的方法。它又可以分为物理气相沉积。物理气相沉积可分为利用加热膜材而产生热蒸发沉积、利用气体放电产生的正离子轰击阴极（靶材）所产生的溅射沉积、将蒸发和溅射结合起来的离子镀以及分子束外延。我们称之为溅射真空镀。; ③电子枪真空镀：在真空环境中，灯丝经加热发射热电子，受束极及阳极加速变成带状高能电子束。在偏转磁场作用下电子束旋转270°角入射到坩埚靶材上，其能量达到一万电子伏特，传递给靶材实现电能→热能转换，在电子束轰击区域内，靶材表面温度迅速升高及熔化直至蒸发。称为电子枪真空镀。通常也称之为光学镀膜。;五、真空镀膜工艺;蒸发镀膜和磁控溅射镀膜工艺的示意图：; 真空蒸发镀膜法就是在1.3×10-2~ 1.3×10-3pa (10-4~10-5Torr)的真空中以电阻加热镀膜材料，使 它在极短时间内蒸发，蒸发了的镀膜材料分子沉 积在基材表面上形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜 材料蒸发的蒸发源，还有支承基材的工作架或卷绕 装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的 真空度、镀膜材料的蒸发速率、蒸发距离和蒸发源 的间距，以及基材表面状态和温度等都是影响镀膜 层质量的因素。;磁控溅射法;蒸发法与磁控溅射法的比较;真空镀膜方式;六、真空镀膜材料; 镍-铁，铁-钴，金-银-金等。金属化合物型的镀 膜材料有：SiO2 、 Ti3O5 、 SnO2 、MgF2 、 ZnS等。在众多镀膜材料中，以铝材的应用最多，这是因 为铝在真空条件下，蒸发湿度较低，易操作。铝镀膜 层对塑料的附着力强，富有金属光泽；铝镀膜层还能 够遮蔽紫外线，对气体阻隔性也很好。另外，高纯度 的铝价格比较便宜，这是其他镀膜材料所不及的。铝 的反射率高，厚度40nm铝镀膜层的反射率达90%。;七、基材适镀性特征; 被镀塑料基材应与真空镀膜材料有良好的 附着结合强度，塑料与金属镀层的结合强度和 塑料本身的极性等结构因素密切相关。一般认 为聚酯类材料和镀铝膜层的结合力最强，在保 证表面洁净的条件下可以直接进行真空镀膜， 如大规模生产的PET真空镀膜。铝镀膜层PP、 PE、等弱极性基材的附着力差，PC和硬质PVC 则介乎其间。;八、塑料真空镀膜常见问题分析;问题及现象;问题及现象;问题及现象;问题及现象;问题; 化学镀又称水电镀，也可称为湿镀。一般用此方法镀膜，成本高，膜厚不均匀，厚度难于控制，而且会产生大量的废液而造成公害。; ①一般用此方法镀膜不易受污染，可获得纯度高、致密性好、厚度均匀的膜层，对空气环境不会产生污染。 ②真空镀膜材料和基体材料有广泛的选择性，可以制备各种不同的功能性膜层（如玻璃、陶瓷、塑料、木板等）。 ③薄膜结构在化学组成上可分单质膜、化合物膜。在薄膜功能上，可分为装饰膜。例如：防腐蚀膜、硬质膜、隔热膜、超导膜，显示存贮膜及防辐射膜等。 ④薄膜与基体附着强度好，膜层牢固，对环境无污染。 ; 首先开水、电、气→总电源→开维持泵→开扩散泵加热→开粗抽泵 →开预抽阀→关预抽阀→开粗抽阀→开罗茨泵→如有离子轰击，开轰击30秒，关轰击→ 开真空计→当真空到6.0—7.0pa时，关粗抽阀→开前置阀→开精抽阀，当真空达到7×10 - 3pa，开转架→开始镀膜操作→镀膜完毕后，关闭真空计、离子源→关精抽阀，前置阀→关罗茨泵→开充气阀，取件→上料，反复开始操作。 ; 1、设备停用时，镀膜室要 保持真空状态，减少内 表面内气体的吸附，防 止氧化